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氮化物半导体发光元件
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201680055494.0
申请日
:
2016-09-21
公开(公告)号
:
CN108028300A
公开(公告)日
:
2018-05-11
发明(设计)人
:
朝田耕司
冈部德太郎
申请人
:
申请人地址
:
日本德岛县
IPC主分类号
:
H01L3332
IPC分类号
:
H01L3306
代理机构
:
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人
:
张毅群
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2018-08-14
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 33/32 申请日:20160921
2018-05-11
公开
公开
2020-09-04
授权
授权
共 50 条
[1]
氮化物半导体发光元件
[P].
小幡俊之
论文数:
0
引用数:
0
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0
小幡俊之
.
中国专利
:CN105009310A
,2015-10-28
[2]
氮化物半导体发光元件
[P].
川口靖利
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机构:
新唐科技日本株式会社
新唐科技日本株式会社
川口靖利
;
吉田真治
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机构:
新唐科技日本株式会社
新唐科技日本株式会社
吉田真治
;
冈口贵大
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机构:
新唐科技日本株式会社
新唐科技日本株式会社
冈口贵大
;
中泽崇一
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机构:
新唐科技日本株式会社
新唐科技日本株式会社
中泽崇一
;
林茂生
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机构:
新唐科技日本株式会社
新唐科技日本株式会社
林茂生
;
畑雅幸
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机构:
新唐科技日本株式会社
新唐科技日本株式会社
畑雅幸
.
日本专利
:CN117837035A
,2024-04-05
[3]
氮化物半导体发光元件
[P].
松仓勇介
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机构:
日机装株式会社
日机装株式会社
松仓勇介
;
稻津哲彦
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机构:
日机装株式会社
日机装株式会社
稻津哲彦
;
希利尔·贝诺
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机构:
日机装株式会社
日机装株式会社
希利尔·贝诺
.
日本专利
:CN112420889B
,2024-06-18
[4]
氮化物半导体发光元件
[P].
松仓勇介
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松仓勇介
;
稻津哲彦
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稻津哲彦
;
希利尔·贝诺
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希利尔·贝诺
.
中国专利
:CN112420889A
,2021-02-26
[5]
氮化物半导体发光元件
[P].
松仓勇介
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松仓勇介
;
稻津哲彦
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稻津哲彦
;
希利尔·贝诺
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希利尔·贝诺
.
中国专利
:CN112349820A
,2021-02-09
[6]
氮化物半导体发光元件
[P].
松仓勇介
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机构:
日机装株式会社
日机装株式会社
松仓勇介
;
希利尔·贝诺
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机构:
日机装株式会社
日机装株式会社
希利尔·贝诺
.
日本专利
:CN115588719B
,2025-11-07
[7]
氮化物半导体发光元件
[P].
松仓勇介
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机构:
日机装株式会社
日机装株式会社
松仓勇介
;
稻津哲彦
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机构:
日机装株式会社
日机装株式会社
稻津哲彦
;
希利尔·贝诺
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机构:
日机装株式会社
日机装株式会社
希利尔·贝诺
.
日本专利
:CN112349820B
,2024-02-06
[8]
氮化物半导体发光元件
[P].
松仓勇介
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松仓勇介
;
希利尔·贝诺
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0
希利尔·贝诺
.
中国专利
:CN115588719A
,2023-01-10
[9]
氮化物半导体发光元件
[P].
松仓勇介
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0
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机构:
日机装株式会社
日机装株式会社
松仓勇介
;
稻津哲彦
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机构:
日机装株式会社
日机装株式会社
稻津哲彦
;
希利尔·贝诺
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机构:
日机装株式会社
日机装株式会社
希利尔·贝诺
.
日本专利
:CN117637952A
,2024-03-01
[10]
氮化物半导体发光元件
[P].
松仓勇介
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0
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机构:
日机装株式会社
日机装株式会社
松仓勇介
;
稻津哲彦
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机构:
日机装株式会社
日机装株式会社
稻津哲彦
;
希利尔·贝诺
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机构:
日机装株式会社
日机装株式会社
希利尔·贝诺
.
日本专利
:CN117637951A
,2024-03-01
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