辐射源、光刻设备以及器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980131716.2

申请日：

2009-07-09

公开(公告)号：

CN102150084A

公开(公告)日：

2011-08-10

发明(设计)人：

M·J·J·杰克 W·A·索尔 M·M·J·W·范赫彭 V·Y·班尼恩 A·M·雅库尼恩

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

王波波

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-08-10	公开	公开
2011-09-21	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101110109965 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801317162 申请日:20090709
2014-03-05	授权	授权

共 50 条

[1]

辐射源、光刻设备以及器件制造方法 [P].

A·M·雅库尼恩 ;

V·Y·班尼恩 ;

J·H·J·莫尔斯 ;

L·A·斯佳梅诺克 .

中国专利 :CN102099747B ,2011-06-15

[2]

辐射源、光刻设备以及器件制造方法 [P].

D·兰贝特斯基 ;

V·班尼恩 ;

E·鲁普斯特拉 ;

A·亚库宁 .

中国专利 :CN102782582A ,2012-11-14

[3]

辐射源、光刻设备以及器件制造方法 [P].

A·凯姆鹏 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯卓 .

中国专利 :CN102119366A ,2011-07-06

[4]

辐射源、光刻设备以及器件制造方法 [P].

V·Y·班尼恩 ;

M·M·J·W·范赫彭 ;

W·A·索尔 .

中国专利 :CN101911839A ,2010-12-08

[5]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

A·凯姆鹏 ;

R·布吕尔斯 ;

E·鲁普斯特拉 ;

R·莫尔斯 ;

G·斯温克尔斯 ;

W·梅斯特罗姆 .

中国专利 :CN102652286A ,2012-08-29

[6]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

G·G·祖卡维斯维里 ;

V·V·艾瓦诺夫 ;

K·N·科谢勒夫 ;

E·D·科罗布 ;

V·Y·班尼 ;

P·S·安特斯菲罗夫 .

中国专利 :CN1498056A ,2004-05-19

[7]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

M·克拉森 ;

R·格罗内维尔德 ;

A·斯卓克肯 ;

G·斯温克尔斯 .

中国专利 :CN102105836A ,2011-06-22

[8]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

V·Y·巴尼内 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

J·H·J·莫尔斯 .

中国专利 :CN102119365A ,2011-07-06

[9]

辐射源及其控制方法、光刻设备以及器件制造方法 [P].

埃瑞克·派卓斯·伯曼 ;

西拉特·伊什特万·希萨 .

中国专利 :CN102890424A ,2013-01-23

[10]

用于器件制造的光刻设备的辐射源以及方法 [P].

R·豪特曼 ;

A·凯姆鹏 ;

B·范伊森 .

中国专利 :CN103765997B ,2014-04-30

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