辐射源、光刻设备以及器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180012640.9

申请日：

2011-01-31

公开(公告)号：

CN102782582A

公开(公告)日：

2012-11-14

发明(设计)人：

D·兰贝特斯基 V·班尼恩 E·鲁普斯特拉 A·亚库宁

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B500 G21K108

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

张启程

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-11-14	公开	公开
2015-09-02	发明专利申请公布后的视为撤回	发明专利申请公布后的视为撤回号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101720040974 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011800126409 申请公布日:20121114
2013-04-17	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101437718139 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011800126409 申请日:20110131

共 50 条

[1]

辐射源、光刻设备以及器件制造方法 [P].

A·M·雅库尼恩 ;

V·Y·班尼恩 ;

J·H·J·莫尔斯 ;

L·A·斯佳梅诺克 .

中国专利 :CN102099747B ,2011-06-15

[2]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

V·Y·巴尼内 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

J·H·J·莫尔斯 .

中国专利 :CN102119365A ,2011-07-06

[3]

辐射源、光刻设备以及器件制造方法 [P].

A·凯姆鹏 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯卓 .

中国专利 :CN102119366A ,2011-07-06

[4]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

A·凯姆鹏 ;

R·布吕尔斯 ;

E·鲁普斯特拉 ;

R·莫尔斯 ;

G·斯温克尔斯 ;

W·梅斯特罗姆 .

中国专利 :CN102652286A ,2012-08-29

[5]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

M·克拉森 ;

R·格罗内维尔德 ;

A·斯卓克肯 ;

G·斯温克尔斯 .

中国专利 :CN102105836A ,2011-06-22

[6]

辐射源、光刻设备以及器件制造方法 [P].

M·J·J·杰克 ;

W·A·索尔 ;

M·M·J·W·范赫彭 ;

V·Y·班尼恩 ;

A·M·雅库尼恩 .

中国专利 :CN102150084A ,2011-08-10

[7]

辐射源、光刻设备以及器件制造方法 [P].

V·Y·班尼恩 ;

M·M·J·W·范赫彭 ;

W·A·索尔 .

中国专利 :CN101911839A ,2010-12-08

[8]

辐射源及其控制方法、光刻设备以及器件制造方法 [P].

埃瑞克·派卓斯·伯曼 ;

西拉特·伊什特万·希萨 .

中国专利 :CN102890424A ,2013-01-23

[9]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103257532B ,2013-08-21

[10]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN102144191B ,2011-08-03

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