辐射源、光刻设备和器件制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201080055711.9

申请日：

2010-12-08

公开(公告)号：

CN102652286A

公开(公告)日：

2012-08-29

发明(设计)人：

A·凯姆鹏 R·布吕尔斯 E·鲁普斯特拉 R·莫尔斯 G·斯温克尔斯 W·梅斯特罗姆

申请人：

申请人地址：

荷兰维德霍温

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

吴敬莲

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-06-17	授权	授权
2013-03-20	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101413117562 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2010800557119 申请日:20101208
2012-08-29	公开	公开

共 50 条

[1]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

V·Y·巴尼内 ;

E·R·鲁普斯特拉 ;

J·H·J·莫尔斯 .

中国专利 :CN102119365A ,2011-07-06

[2]

辐射源、光刻设备以及器件制造方法 [P].

D·兰贝特斯基 ;

V·班尼恩 ;

E·鲁普斯特拉 ;

A·亚库宁 .

中国专利 :CN102782582A ,2012-11-14

[3]

辐射源、光刻设备以及器件制造方法 [P].

A·M·雅库尼恩 ;

V·Y·班尼恩 ;

J·H·J·莫尔斯 ;

L·A·斯佳梅诺克 .

中国专利 :CN102099747B ,2011-06-15

[4]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

G·G·祖卡维斯维里 ;

V·V·艾瓦诺夫 ;

K·N·科谢勒夫 ;

E·D·科罗布 ;

V·Y·班尼 ;

P·S·安特斯菲罗夫 .

中国专利 :CN1498056A ,2004-05-19

[5]

辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

M·克拉森 ;

R·格罗内维尔德 ;

A·斯卓克肯 ;

G·斯温克尔斯 .

中国专利 :CN102105836A ,2011-06-22

[6]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN103257532B ,2013-08-21

[7]

辐射源和光刻设备 [P].

A·亚库宁 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯特拉 ;

V·克里夫特苏恩 ;

G·斯温克尔斯 ;

D·兰贝特斯基 .

中国专利 :CN102144191B ,2011-08-03

[8]

收集器组件、辐射源、光刻设备和器件制造方法 [P].

W·A·索尔 ;

M·J·J·杰克 .

中国专利 :CN102177470A ,2011-09-07

[9]

辐射源、光刻设备以及器件制造方法 [P].

A·凯姆鹏 ;

V·班尼恩 ;

V·伊万诺夫 ;

E·鲁普斯卓 .

中国专利 :CN102119366A ,2011-07-06

[10]

辐射源、光刻设备以及器件制造方法 [P].

M·J·J·杰克 ;

W·A·索尔 ;

M·M·J·W·范赫彭 ;

V·Y·班尼恩 ;

A·M·雅库尼恩 .

中国专利 :CN102150084A ,2011-08-10

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