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用于III族氮化物器件的电荷保护
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201410070968.1
申请日
:
2014-02-28
公开(公告)号
:
CN104022104B
公开(公告)日
:
2014-09-03
发明(设计)人
:
R.克内夫勒
M.施特拉斯堡
申请人
:
申请人地址
:
奥地利菲拉赫
IPC主分类号
:
H01L23552
IPC分类号
:
代理机构
:
中国专利代理(香港)有限公司 72001
代理人
:
周学斌;胡莉莉
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2014-10-08
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101587255504 IPC(主分类):H01L 23/552 专利申请号:2014100709681 申请日:20140228
2017-04-12
授权
授权
2014-09-03
公开
公开
共 50 条
[1]
III族氮化物半导体器件
[P].
千代敏明
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千代敏明
;
伊藤润
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伊藤润
;
柴田直树
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柴田直树
.
中国专利
:CN1486513A
,2004-03-31
[2]
III族氮化物半导体晶体、III族氮化物半导体器件以及发光器件
[P].
中畑成二
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中畑成二
;
中幡英章
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中幡英章
;
上松康二
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上松康二
;
木山诚
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木山诚
;
永井阳一
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永井阳一
;
中村孝夫
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中村孝夫
.
中国专利
:CN101882571A
,2010-11-10
[3]
III族氮化物发光器件、III族氮化物外延晶片、III族氮化物发光器件的制作方法
[P].
上杉谦次郎
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国立大学法人三重大学
国立大学法人三重大学
上杉谦次郎
;
三宅秀人
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国立大学法人三重大学
国立大学法人三重大学
三宅秀人
;
中村孝夫
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机构:
国立大学法人三重大学
国立大学法人三重大学
中村孝夫
.
日本专利
:CN117916901A
,2024-04-19
[4]
III族氮化物器件及形成III族氮化物器件的方法
[P].
乌梅什·米什拉
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乌梅什·米什拉
;
李·麦卡蒂
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李·麦卡蒂
;
尼古拉斯·菲希坦鲍姆
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尼古拉斯·菲希坦鲍姆
.
中国专利
:CN104952709B
,2015-09-30
[5]
高击穿电压III族氮化物器件
[P].
O.赫贝尔伦
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O.赫贝尔伦
;
C.奥斯特迈尔
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C.奥斯特迈尔
;
G.普雷希特尔
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G.普雷希特尔
.
中国专利
:CN103594507A
,2014-02-19
[6]
III族氮化物器件以及制备基于III族氮化物的器件的方法
[P].
A·比尔纳
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A·比尔纳
;
H·布雷希
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H·布雷希
;
J·特怀南
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J·特怀南
.
中国专利
:CN113571573A
,2021-10-29
[7]
III族氮化物双向器件
[P].
G·普雷科托
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G·普雷科托
;
O·黑伯伦
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O·黑伯伦
;
C·奥斯特梅尔
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C·奥斯特梅尔
.
中国专利
:CN107068746A
,2017-08-18
[8]
III族氮化物发光器件
[P].
M.J.格伦德曼恩
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M.J.格伦德曼恩
;
N.F.加德纳
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N.F.加德纳
;
W.K.戈伊茨
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W.K.戈伊茨
;
M.B.麦克劳林
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M.B.麦克劳林
;
J.E.埃普勒
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J.E.埃普勒
;
F.A.利昂
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F.A.利昂
.
中国专利
:CN103180973A
,2013-06-26
[9]
III族氮化物发光器件及制造III族氮化物基半导体发光器件的方法
[P].
秋田胜史
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秋田胜史
;
笠井仁
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笠井仁
;
京野孝史
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京野孝史
;
元木健作
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元木健作
.
中国专利
:CN101515700A
,2009-08-26
[10]
III族氮化物结晶的制造方法和III族氮化物结晶
[P].
松本创
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松本创
;
洲崎训任
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洲崎训任
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藤户健史
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藤户健史
;
长尾哲
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长尾哲
.
中国专利
:CN103502514A
,2014-01-08
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