处理废水的有氧抛光系统

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN01821165.8
申请日
2001-11-21
公开(公告)号
CN1253381C
公开(公告)日
2004-03-17
发明(设计)人
小哈里·L·纳斯 西奥菲勒斯·B·特里三世
申请人
申请人地址
美国肯塔基州
IPC主分类号
C02F306
IPC分类号
C02F900
代理机构
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人
王彦斌
法律状态
授权
国省代码
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共 50 条
[1]
具有氧化物层的晶片的抛光系统 [P]. 
金圣教 .
中国专利 :CN207058321U ,2018-03-02
[2]
抛光系统的抛光垫 [P]. 
闵庚勳 ;
林云勳 ;
李大渊 ;
宋在翊 ;
朴寿讃 .
中国专利 :CN103079767A ,2013-05-01
[3]
抛光系统 [P]. 
马科宁 .
中国专利 :CN116175380B ,2025-12-19
[4]
抛光系统 [P]. 
王朝 ;
杨泽民 .
中国专利 :CN215999987U ,2022-03-11
[5]
抛光系统 [P]. 
樊成 ;
张雷 ;
赵启智 .
中国专利 :CN207495140U ,2018-06-15
[6]
抛光系统 [P]. 
初海增 .
中国专利 :CN107953237A ,2018-04-24
[7]
抛光系统 [P]. 
洪瑞仁 ;
蔡东风 ;
刘良广 .
中国专利 :CN205765513U ,2016-12-07
[8]
抛光系统以及制备和使用抛光系统的方法 [P]. 
约翰·J·加戈里亚迪 ;
埃里克·C·科德 ;
保罗·S·勒格 .
中国专利 :CN108603076A ,2018-09-28
[9]
自动抛光系统 [P]. 
王桂平 ;
孙若望 .
中国专利 :CN209223814U ,2019-08-09
[10]
晶片抛光系统 [P]. 
郑加镇 ;
卢建平 .
中国专利 :CN210189428U ,2020-03-27