抛光系统的抛光垫

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201180039962.2

申请日：

2011-08-18

公开(公告)号：

CN103079767A

公开(公告)日：

2013-05-01

发明(设计)人：

闵庚勳林云勳李大渊宋在翊朴寿讃

申请人：

申请人地址：

韩国首尔

IPC主分类号：

B24D1100

IPC分类号：

B24D700 B24B700

代理机构：

北京鸿元知识产权代理有限公司 11327

代理人：

许向彤;陈英俊

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-05-01	公开	公开
2013-06-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101465136499 IPC(主分类):B24D 11/00 专利申请号:2011800399622 申请日:20110818
2016-01-20	授权	授权

共 50 条

[1]

抛光垫、抛光系统以及制造该抛光垫的方法 [P].

波格丹·斯韦德克 ;

大卫·J·利斯卡 ;

杰弗里·德鲁·大卫 ;

多米尼克·J·本维努 .

中国专利 :CN100548581C ,2007-04-04

[2]

抛光垫及抛光系统 [P].

罗乙杰 ;

黄振伟 ;

段冲 ;

高越 .

中国专利 :CN117733728A ,2024-03-22

[3]

一种抛光垫和抛光系统 [P].

张历 ;

王财安 ;

顾纬键 .

中国专利 :CN120696916A ,2025-09-26

[4]

抛光垫冲洗装置和晶片抛光系统 [P].

李经能 ;

蔡文必 .

中国专利 :CN216681664U ,2022-06-07

[5]

抛光垫的修整器以及抛光系统 [P].

沈新林 ;

郭松辉 ;

林宗贤 ;

吴龙江 ;

吕新强 .

中国专利 :CN108214306A ,2018-06-29

[6]

抛光系统、抛光垫及相关方法 [P].

S·巴卡姆 ;

K-H·刘 ;

J·A·库尔特拉 .

美国专利 :CN113365780B ,2024-03-08

[7]

抛光系统、抛光垫及相关方法 [P].

S·巴卡姆 ;

K-H·刘 ;

J·A·库尔特拉 .

中国专利 :CN113365780A ,2021-09-07

[8]

抛光垫修整器、抛光垫修整装置及抛光系统 [P].

姚力军 ;

大岩一彦 ;

相原俊夫 ;

潘杰 ;

王学泽 .

中国专利 :CN104209864A ,2014-12-17

[9]

一种抛光垫及晶圆抛光系统 [P].

张佳林 ;

朱政挺 .

中国专利 :CN222589300U ,2025-03-11

[10]

抛光系统以及制备和使用抛光系统的方法 [P].

约翰·J·加戈里亚迪 ;

埃里克·C·科德 ;

保罗·S·勒格 .

中国专利 :CN108603076A ,2018-09-28

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