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一种抛光垫和抛光系统
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202511099749.0
申请日
:
2025-08-07
公开(公告)号
:
CN120696916A
公开(公告)日
:
2025-09-26
发明(设计)人
:
张历
王财安
顾纬键
申请人
:
衢州博来派得电子材料有限公司
申请人地址
:
324022 浙江省衢州市银仓路10号1幢A201室
IPC主分类号
:
B24B37/22
IPC分类号
:
B24B37/10
B24B37/34
代理机构
:
北京知创宏信知识产权代理有限公司 51350
代理人
:
任嘉明
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2025-09-26
公开
公开
2025-10-17
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/22申请日:20250807
共 50 条
[1]
抛光系统的抛光垫
[P].
闵庚勳
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闵庚勳
;
林云勳
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林云勳
;
李大渊
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李大渊
;
宋在翊
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宋在翊
;
朴寿讃
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朴寿讃
.
中国专利
:CN103079767A
,2013-05-01
[2]
抛光垫冲洗装置和晶片抛光系统
[P].
李经能
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李经能
;
蔡文必
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蔡文必
.
中国专利
:CN216681664U
,2022-06-07
[3]
抛光垫及抛光系统
[P].
罗乙杰
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机构:
湖北鼎汇微电子材料有限公司
湖北鼎汇微电子材料有限公司
罗乙杰
;
黄振伟
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机构:
湖北鼎汇微电子材料有限公司
湖北鼎汇微电子材料有限公司
黄振伟
;
段冲
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机构:
湖北鼎汇微电子材料有限公司
湖北鼎汇微电子材料有限公司
段冲
;
高越
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机构:
湖北鼎汇微电子材料有限公司
湖北鼎汇微电子材料有限公司
高越
.
中国专利
:CN117733728A
,2024-03-22
[4]
一种抛光垫及晶圆抛光系统
[P].
张佳林
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机构:
杭州众硅电子科技有限公司
杭州众硅电子科技有限公司
张佳林
;
朱政挺
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机构:
杭州众硅电子科技有限公司
杭州众硅电子科技有限公司
朱政挺
.
中国专利
:CN222589300U
,2025-03-11
[5]
抛光系统和抛光方法
[P].
林士琦
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林士琦
;
吴坤泰
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吴坤泰
;
周友华
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周友华
;
李志聪
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李志聪
;
洪敏皓
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洪敏皓
;
吴志仁
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吴志仁
;
黄振铭
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黄振铭
;
黃循康
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黃循康
;
詹金祥
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詹金祥
;
杨智渊
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杨智渊
.
中国专利
:CN103846770A
,2014-06-11
[6]
一种抛光头和抛光系统
[P].
杨怀庆
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机构:
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
杨怀庆
;
白强强
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机构:
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
白强强
;
王明
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机构:
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
西安奕斯伟材料科技股份有限公司
王明
.
中国专利
:CN119589544A
,2025-03-11
[7]
抛光系统、抛光垫及相关方法
[P].
S·巴卡姆
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
S·巴卡姆
;
K-H·刘
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
K-H·刘
;
J·A·库尔特拉
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机构:
美光科技公司
美光科技公司
J·A·库尔特拉
.
美国专利
:CN113365780B
,2024-03-08
[8]
抛光系统、抛光垫及相关方法
[P].
S·巴卡姆
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S·巴卡姆
;
K-H·刘
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K-H·刘
;
J·A·库尔特拉
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J·A·库尔特拉
.
中国专利
:CN113365780A
,2021-09-07
[9]
抛光垫、抛光系统以及制造该抛光垫的方法
[P].
波格丹·斯韦德克
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波格丹·斯韦德克
;
大卫·J·利斯卡
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大卫·J·利斯卡
;
杰弗里·德鲁·大卫
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杰弗里·德鲁·大卫
;
多米尼克·J·本维努
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多米尼克·J·本维努
.
中国专利
:CN100548581C
,2007-04-04
[10]
一种抛光模组、抛光单元、抛光系统和抛光方法
[P].
王春龙
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机构:
华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
王春龙
;
徐海洋
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机构:
华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
徐海洋
;
许振杰
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机构:
华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
许振杰
;
赵德文
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机构:
华海清科股份有限公司
华海清科股份有限公司
赵德文
.
中国专利
:CN117415724A
,2024-01-19
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