抛光系统、抛光垫及相关方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980090599.3

申请日：

2019-12-11

公开(公告)号：

CN113365780B

公开(公告)日：

2024-03-08

发明(设计)人：

S·巴卡姆 K-H·刘 J·A·库尔特拉

申请人：

美光科技公司

申请人地址：

美国爱达荷州

IPC主分类号：

B24B37/24

IPC分类号：

B24B21/04 B24B49/16

代理机构：

北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287

代理人：

王龙

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-03-08	授权	授权

共 50 条

[1]

抛光系统、抛光垫及相关方法 [P].

S·巴卡姆 ;

K-H·刘 ;

J·A·库尔特拉 .

中国专利 :CN113365780A ,2021-09-07

[2]

抛光垫及抛光系统 [P].

罗乙杰 ;

黄振伟 ;

段冲 ;

高越 .

中国专利 :CN117733728A ,2024-03-22

[3]

抛光方法及抛光系统 [P].

何昆哲 .

中国专利 :CN120901836A ,2025-11-07

[4]

抛光系统的抛光垫 [P].

闵庚勳 ;

林云勳 ;

李大渊 ;

宋在翊 ;

朴寿讃 .

中国专利 :CN103079767A ,2013-05-01

[5]

检测窗口、化学机械抛光垫及抛光系统 [P].

王腾 ;

刘敏 ;

罗乙杰 ;

王淑芹 ;

杨浩 ;

林文多 .

中国专利 :CN113478382A ,2021-10-08

[6]

抛光垫、抛光系统以及制造该抛光垫的方法 [P].

波格丹·斯韦德克 ;

大卫·J·利斯卡 ;

杰弗里·德鲁·大卫 ;

多米尼克·J·本维努 .

中国专利 :CN100548581C ,2007-04-04

[7]

抛光垫修整器、抛光垫修整装置及抛光系统 [P].

姚力军 ;

大岩一彦 ;

相原俊夫 ;

潘杰 ;

王学泽 .

中国专利 :CN104209864A ,2014-12-17

[8]

含硼抛光系统及方法 [P].

赵瑞杰 ;

史蒂文·K·格鲁宾 ;

艾萨克·K·彻里安 .

中国专利 :CN100425666C ,2005-02-02

[9]

抛光垫修整器及其制造方法、抛光垫修整装置及抛光系统 [P].

姚力军 ;

大岩一彦 ;

相原俊夫 ;

潘杰 ;

王学泽 .

中国专利 :CN104209863A ,2014-12-17

[10]

抛光方法及抛光系统 [P].

林岳明 .

中国专利 :CN117891138A ,2024-04-16

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