抛光方法及抛光系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202511054445.2

申请日：

2025-07-29

公开(公告)号：

CN120901836A

公开(公告)日：

2025-11-07

发明(设计)人：

何昆哲

申请人：

上海新昇半导体科技有限公司

申请人地址：

201306 上海市浦东新区泥城镇云水路1000号

IPC主分类号：

B24B37/04

IPC分类号：

B24B37/013 B24B49/02 G01B21/32 G01B21/20 H01L21/66

代理机构：

上海思捷知识产权代理有限公司 31295

代理人：

冯启正

法律状态：

公开

国省代码：

上海市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-07	公开	公开
2025-11-25	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/04申请日:20250729

共 50 条

[1]

抛光方法及抛光系统 [P].

林岳明 .

中国专利 :CN117891138A ,2024-04-16

[2]

抛光系统及抛光方法 [P].

梁焰 ;

岳兴 ;

李安庭 .

中国专利 :CN112872916A ,2021-06-01

[3]

抛光系统和抛光方法 [P].

林士琦 ;

吴坤泰 ;

周友华 ;

李志聪 ;

洪敏皓 ;

吴志仁 ;

黄振铭 ;

黃循康 ;

詹金祥 ;

杨智渊 .

中国专利 :CN103846770A ,2014-06-11

[4]

抛光系统、抛光垫及相关方法 [P].

S·巴卡姆 ;

K-H·刘 ;

J·A·库尔特拉 .

美国专利 :CN113365780B ,2024-03-08

[5]

抛光系统、抛光垫及相关方法 [P].

S·巴卡姆 ;

K-H·刘 ;

J·A·库尔特拉 .

中国专利 :CN113365780A ,2021-09-07

[6]

抛光衬垫、制造抛光衬垫的方法以及抛光系统和抛光方法 [P].

B·A·斯威德克 ;

M·比兰恩 .

中国专利 :CN101310929B ,2008-11-26

[7]

含硼抛光系统及方法 [P].

赵瑞杰 ;

史蒂文·K·格鲁宾 ;

艾萨克·K·彻里安 .

中国专利 :CN100425666C ,2005-02-02

[8]

基底抛光系统及基底抛光方法 [P].

赵玹辰 ;

裴俊和 ;

秋秉权 ;

姜秉薰 ;

千俊赫 ;

崔贞惠 ;

丁荣镐 ;

曹雨辰 .

中国专利 :CN107717713A ,2018-02-23

[9]

抛光工具、抛光系统和抛光方法 [P].

S·松佐尼 .

:CN118234596A ,2024-06-21

[10]

抛光制品、抛光系统和抛光方法 [P].

陈联舜 ;

詹姆斯·P·伯克 ;

贾斯廷·W·勒巴肯 .

中国专利 :CN114599482A ,2022-06-07

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