光刻胶的形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910195615.3

申请日：

2009-09-07

公开(公告)号：

CN102012635B

公开(公告)日：

2011-04-13

发明(设计)人：

周从树顾以理

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东张江高科技园区祖冲之路1399号

IPC主分类号：

G03F709

IPC分类号：

G03F716

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

李丽

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-06-01	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101074687814 IPC(主分类):G03F 7/09 专利申请号:2009101956153 申请日:20090907
2011-04-13	公开	公开
2014-01-01	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101684097712 IPC(主分类):G03F 7/09 专利号:ZL2009101956153 变更事项:专利权人变更前权利人:上海宏力半导体制造有限公司变更后权利人:上海华虹宏力半导体制造有限公司变更事项:地址变更前权利人:201203 上海市浦东张江高科技园区祖冲之路1399号变更后权利人:201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号登记生效日:20131212
2012-02-15	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻胶图案的形成方法 [P].

訾安仁 ;

郑雅如 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN109782540A ,2019-05-21

[2]

光刻胶层的形成方法 [P].

唐蓉 ;

钱志浩 .

中国专利 :CN102610498A ,2012-07-25

[3]

光刻胶图形的形成方法 [P].

王辉 .

中国专利 :CN106486346A ,2017-03-08

[4]

光刻胶图案的形成方法和光刻胶层合体 [P].

山崎晃义 ;

本池直人 ;

川名大助 ;

佐藤和史 .

中国专利 :CN1424626A ,2003-06-18

[5]

光刻胶图形及其形成方法 [P].

张海洋 ;

陈卓凡 .

中国专利 :CN111403270A ,2020-07-10

[6]

正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 [P].

羽田英夫 ;

藤村悟史 ;

岩下淳 .

中国专利 :CN1276304C ,2005-02-09

[7]

正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 [P].

岩井武 ;

久保田尚孝 ;

藤村悟史 ;

羽田英夫 .

中国专利 :CN1310091C ,2005-03-23

[8]

正型光刻胶组合物及光刻胶图案形成方法 [P].

增田靖男 ;

奥井俊树 .

中国专利 :CN1849559B ,2006-10-18

[9]

光刻胶的涂布方法及光刻图形的形成方法 [P].

郝静安 ;

尹朝丽 .

中国专利 :CN101354534B ,2009-01-28

[10]

图形化光刻胶的形成方法 [P].

顾以理 ;

夏建慧 .

中国专利 :CN103823334A ,2014-05-28

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