光刻胶图形的形成方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201510536201.8

申请日：

2015-08-27

公开(公告)号：

CN106486346A

公开(公告)日：

2017-03-08

发明(设计)人：

王辉

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

G03F700

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

蔡杰赟;吴敏

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-04-26	授权	授权
2017-04-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101710765236 IPC(主分类):H01L 21/027 专利申请号:2015105362018 申请日:20150827
2017-03-08	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻胶图形及其形成方法 [P].

张海洋 ;

陈卓凡 .

中国专利 :CN111403270A ,2020-07-10

[2]

形成光刻胶图形的方法 [P].

权五成 ;

李斗熙 ;

陆迵善 ;

洪兴基 ;

具永谟 .

中国专利 :CN1079548C ,1996-01-24

[3]

形成光刻胶图形的方法 [P].

冈村健司 ;

荒田弘美 ;

井上修一 .

中国专利 :CN1233848A ,1999-11-03

[4]

光刻胶的形成方法 [P].

周从树 ;

顾以理 .

中国专利 :CN102012635B ,2011-04-13

[5]

图形化光刻胶的形成方法 [P].

顾以理 ;

夏建慧 .

中国专利 :CN103823334A ,2014-05-28

[6]

光刻胶的涂布方法及光刻图形的形成方法 [P].

郝静安 ;

尹朝丽 .

中国专利 :CN101354534B ,2009-01-28

[7]

重新形成光刻胶图形的方法 [P].

尹晓明 ;

孙武 ;

韩宝东 ;

符雅丽 .

中国专利 :CN102445838A ,2012-05-09

[8]

降低光刻胶图形缺陷的方法及形成光刻胶图形的设备 [P].

胡林 ;

王彩虹 ;

陈蕾 ;

鲍晔 ;

周孟兴 .

中国专利 :CN102854759A ,2013-01-02

[9]

光刻胶图案的形成方法 [P].

訾安仁 ;

郑雅如 ;

张庆裕 ;

林进祥 .

中国专利 :CN109782540A ,2019-05-21

[10]

光刻胶层的形成方法 [P].

唐蓉 ;

钱志浩 .

中国专利 :CN102610498A ,2012-07-25

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