形成光刻胶图形的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN94120086.8

申请日：

1994-11-25

公开(公告)号：

CN1079548C

公开(公告)日：

1996-01-24

发明(设计)人：

权五成李斗熙陆迵善洪兴基具永谟

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

杨梧

法律状态：

实质审查请求的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
1996-12-11	实质审查请求的生效	实质审查请求的生效
1996-01-24	公开	公开
2012-02-08	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101180309740 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL941200868 申请日:19941125 授权公告日:20020220 终止日期:20101125
2002-02-20	授权	授权

共 50 条

[1]

形成光刻胶图形的方法 [P].

冈村健司 ;

荒田弘美 ;

井上修一 .

中国专利 :CN1233848A ,1999-11-03

[2]

光刻胶图形的形成方法 [P].

王辉 .

中国专利 :CN106486346A ,2017-03-08

[3]

重新形成光刻胶图形的方法 [P].

尹晓明 ;

孙武 ;

韩宝东 ;

符雅丽 .

中国专利 :CN102445838A ,2012-05-09

[4]

降低光刻胶图形缺陷的方法及形成光刻胶图形的设备 [P].

胡林 ;

王彩虹 ;

陈蕾 ;

鲍晔 ;

周孟兴 .

中国专利 :CN102854759A ,2013-01-02

[5]

光刻胶的硅化方法及形成光刻胶掩模图形的方法 [P].

崔彰日 ;

李冬 .

中国专利 :CN101458460A ,2009-06-17

[6]

光刻胶和光刻胶图形的优化方法 [P].

林益世 ;

黄宜斌 .

中国专利 :CN102262357A ,2011-11-30

[7]

光刻胶图形及其形成方法 [P].

张海洋 ;

陈卓凡 .

中国专利 :CN111403270A ,2020-07-10

[8]

形成对称的光刻胶图形的方法 [P].

安辉 .

中国专利 :CN102053486A ,2011-05-11

[9]

光刻胶的涂布方法及光刻图形的形成方法 [P].

郝静安 ;

尹朝丽 .

中国专利 :CN101354534B ,2009-01-28

[10]

一种形成光刻胶图形的方法 [P].

泷泽正晴 .

中国专利 :CN1280315A ,2001-01-17

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