用于X射线成像中的散射校正的方法和系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201210220584.4

申请日：

2012-06-29

公开(公告)号：

CN102846333A

公开(公告)日：

2013-01-02

发明(设计)人：

吴小页谢强 P.赛纳思 X.刘

申请人：

申请人地址：

美国纽约州

IPC主分类号：

A61B603

IPC分类号：

G01N2304 G06T500

代理机构：

中国专利代理(香港)有限公司 72001

代理人：

叶晓勇;李浩

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-08-10	授权	授权
2014-06-04	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101582650200 IPC(主分类):A61B 6/03 专利申请号:2012102205844 申请日:20120629
2013-01-02	公开	公开

共 50 条

[1]

用于X射线成像的散射校正 [P].

B·门瑟 ;

P·普林森 ;

D·舍费尔 ;

J·维格特 .

:CN112204607B ,2024-04-19

[2]

用于X射线成像的散射校正 [P].

B·门瑟 ;

P·普林森 ;

D·舍费尔 ;

J·维格特 .

中国专利 :CN112204607A ,2021-01-08

[3]

X射线成像的散射估计和/或校正 [P].

马特斯·丹尼尔松 ;

大卫·迈克尔·霍夫曼 .

中国专利 :CN109917445A ,2019-06-21

[4]

X射线成像的散射估计和/或校正 [P].

马特斯·丹尼尔松 ;

大卫·迈克尔·霍夫曼 .

中国专利 :CN107710020A ,2018-02-16

[5]

用于校正X射线成像中的X射线检测器倾斜的方法和系统 [P].

维纳亚克·雅迪 ;

普拉布·拉贾塞卡兰 ;

纳西尔·艾哈迈德·德赛 ;

阿什维尼·奇卡纳亚卡纳哈利·瓦苏德瓦 .

中国专利 :CN112294344A ,2021-02-02

[6]

用于校正X射线成像中的X射线检测器倾斜的方法和系统 [P].

维纳亚克·雅迪 ;

普拉布·拉贾塞卡兰 ;

纳西尔·艾哈迈德·德赛 ;

阿什维尼·奇卡纳亚卡纳哈利·瓦苏德瓦 .

美国专利 :CN112294344B ,2024-07-16

[7]

X射线成像中的数据校正 [P].

K·施蒂尔斯托费尔 ;

M·彼得希尔卡 ;

M·胡普费尔 ;

A·希伦布兰德 ;

M·鲍尔-贝克 ;

R·劳帕克 .

中国专利 :CN112562025A ,2021-03-26

[8]

X射线成像中的数据校正 [P].

K·施蒂尔斯托费尔 ;

M·彼得希尔卡 ;

M·胡普费尔 ;

A·希伦布兰德 ;

M·鲍尔-贝克 ;

R·劳帕克 .

德国专利 :CN112562025B ,2025-04-11

[9]

用于去除X射线成像中的防散射栅格伪影的方法和系统 [P].

L·博伊莱文凯尔 ;

F·马塔纳 ;

文森特·乔纳斯·比斯马思 ;

R·布雷维特 ;

范妮·帕图洛斯 .

中国专利 :CN115689909A ,2023-02-03

[10]

用于X射线成像的系统和方法 [P].

刘小松 ;

史岩华 .

美国专利 :CN113100792B ,2025-01-10

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