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X射线成像的散射估计和/或校正
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201580081248.8
申请日
:
2015-10-08
公开(公告)号
:
CN107710020A
公开(公告)日
:
2018-02-16
发明(设计)人
:
马特斯·丹尼尔松
大卫·迈克尔·霍夫曼
申请人
:
申请人地址
:
瑞典斯德哥尔摩
IPC主分类号
:
G01T124
IPC分类号
:
A61B600
G01T129
G01T136
代理机构
:
广州三环专利商标代理有限公司 44202
代理人
:
刘宇峰
法律状态
:
授权
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-03-27
授权
授权
2018-03-16
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G01T 1/24 申请日:20151008
2018-02-16
公开
公开
共 50 条
[1]
X射线成像的散射估计和/或校正
[P].
马特斯·丹尼尔松
论文数:
0
引用数:
0
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0
马特斯·丹尼尔松
;
大卫·迈克尔·霍夫曼
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大卫·迈克尔·霍夫曼
.
中国专利
:CN109917445A
,2019-06-21
[2]
用于X射线成像的散射校正
[P].
B·门瑟
论文数:
0
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0
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0
机构:
皇家飞利浦有限公司
皇家飞利浦有限公司
B·门瑟
;
P·普林森
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机构:
皇家飞利浦有限公司
皇家飞利浦有限公司
P·普林森
;
D·舍费尔
论文数:
0
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机构:
皇家飞利浦有限公司
皇家飞利浦有限公司
D·舍费尔
;
J·维格特
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0
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机构:
皇家飞利浦有限公司
皇家飞利浦有限公司
J·维格特
.
:CN112204607B
,2024-04-19
[3]
用于X射线成像的散射校正
[P].
B·门瑟
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0
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B·门瑟
;
P·普林森
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P·普林森
;
D·舍费尔
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D·舍费尔
;
J·维格特
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J·维格特
.
中国专利
:CN112204607A
,2021-01-08
[4]
用于X射线成像中的散射校正的方法和系统
[P].
吴小页
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0
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吴小页
;
谢强
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谢强
;
P.赛纳思
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P.赛纳思
;
X.刘
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X.刘
.
中国专利
:CN102846333A
,2013-01-02
[5]
对相衬X射线成像和/或暗场X射线成像中的X射线入射条纹图样的X射线探测
[P].
R·斯特德曼布克
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R·斯特德曼布克
;
E·勒斯尔
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E·勒斯尔
;
W·吕腾
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W·吕腾
.
中国专利
:CN109863424A
,2019-06-07
[6]
用于相位对比和/或暗场成像的X射线探测器
[P].
R·普罗克绍
论文数:
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0
R·普罗克绍
.
中国专利
:CN107850680A
,2018-03-27
[7]
一种多能谱X射线成像散射估计与校正方法
[P].
周正东
论文数:
0
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0
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0
周正东
.
中国专利
:CN109540930A
,2019-03-29
[8]
用于X射线成像设施的检查台和X射线成像设施
[P].
贝特霍尔德·鲍曼
论文数:
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贝特霍尔德·鲍曼
;
安德烈亚斯·布赫脑尔
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安德烈亚斯·布赫脑尔
;
托马斯·迪普
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托马斯·迪普
;
康斯坦丁·克诺特
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康斯坦丁·克诺特
;
沃尔夫冈·诺伊贝尔
论文数:
0
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0
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0
沃尔夫冈·诺伊贝尔
.
中国专利
:CN217285823U
,2022-08-26
[9]
X射线探测台和X射线成像设备
[P].
吕永
论文数:
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吕永
;
于爱民
论文数:
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0
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0
于爱民
.
中国专利
:CN101491444B
,2009-07-29
[10]
X射线成像设备和方法
[P].
弗雷德里克·约翰内斯·贝克曼
论文数:
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0
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0
弗雷德里克·约翰内斯·贝克曼
.
中国专利
:CN114302678A
,2022-04-08
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