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半导体器件及其制造方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202111563873.X
申请日
:
2016-02-18
公开(公告)号
:
CN114242719A
公开(公告)日
:
2022-03-25
发明(设计)人
:
天羽生淳
申请人
:
申请人地址
:
日本东京都
IPC主分类号
:
H01L2706
IPC分类号
:
H01L2711568
H01L2711573
代理机构
:
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
:
李辉
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-04-12
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):H01L 27/06 申请日:20160218
2022-03-25
公开
公开
共 50 条
[1]
半导体器件及其制造方法
[P].
天羽生淳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
瑞萨电子株式会社
瑞萨电子株式会社
天羽生淳
.
日本专利
:CN114242719B
,2025-11-04
[2]
半导体器件及其制造方法
[P].
天羽生淳
论文数:
0
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0
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0
天羽生淳
.
中国专利
:CN105977254B
,2016-09-28
[3]
半导体器件及其制造方法
[P].
天羽生淳
论文数:
0
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0
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0
天羽生淳
.
中国专利
:CN106024792A
,2016-10-12
[4]
半导体器件及其制造方法
[P].
山越英明
论文数:
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山越英明
;
桥本孝司
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桥本孝司
;
阿部真一郎
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阿部真一郎
;
大水祐人
论文数:
0
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大水祐人
.
中国专利
:CN108878427A
,2018-11-23
[5]
半导体器件及其制造方法
[P].
时田裕文
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时田裕文
;
绪方完
论文数:
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绪方完
.
中国专利
:CN105826325A
,2016-08-03
[6]
半导体器件的制造方法及半导体器件
[P].
冈崎勉
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冈崎勉
;
冈田大介
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冈田大介
;
池田良广
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池田良广
;
塚本惠介
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塚本惠介
;
福村达也
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福村达也
;
宿利章二
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宿利章二
;
原田惠一
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原田惠一
;
岸浩二
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岸浩二
.
中国专利
:CN1622311A
,2005-06-01
[7]
半导体器件及其制造工艺
[P].
东野智彦
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东野智彦
;
胜木信幸
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胜木信幸
;
川胜康弘
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川胜康弘
;
小林道弘
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小林道弘
.
中国专利
:CN101266973B
,2008-09-17
[8]
半导体器件及其制造方法
[P].
菅谷慎二
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菅谷慎二
;
桥本浩一
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桥本浩一
;
鹰尾义弘
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鹰尾义弘
.
中国专利
:CN1734769A
,2006-02-15
[9]
半导体器件及其制造方法
[P].
永井孝一
论文数:
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永井孝一
;
菊池秀明
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菊池秀明
;
佐次田直也
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佐次田直也
;
尾崎康孝
论文数:
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尾崎康孝
.
中国专利
:CN101299429A
,2008-11-05
[10]
半导体器件及其制造方法
[P].
小西纲一
论文数:
0
引用数:
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机构:
瑞萨电子株式会社
瑞萨电子株式会社
小西纲一
;
丸山隆弘
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机构:
瑞萨电子株式会社
瑞萨电子株式会社
丸山隆弘
;
镰田拓步
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机构:
瑞萨电子株式会社
瑞萨电子株式会社
镰田拓步
;
河合彻
论文数:
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机构:
瑞萨电子株式会社
瑞萨电子株式会社
河合彻
.
日本专利
:CN121013357A
,2025-11-25
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