电化学法制备多孔硅的双槽装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200610129434.7

申请日：

2006-11-16

公开(公告)号：

CN1974880A

公开(公告)日：

2007-06-06

发明(设计)人：

胡明张绪瑞张伟

申请人：

申请人地址：

300072天津市卫津路92号

IPC主分类号：

C25F312

IPC分类号：

C25F700

代理机构：

天津市鼎和专利商标代理有限公司

代理人：

李凤

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-05-12	授权	授权
2012-01-25	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101175710048 IPC(主分类):C25F 3/12 专利号:ZL2006101294347 申请日:20061116 授权公告日:20100512 终止日期:20101116
2007-06-06	公开	公开
2007-08-01	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

用于电化学法制备多孔硅的双槽装置及制备多孔硅的方法 [P].

许高斌 ;

奚野 ;

陈兴 ;

马渊明 .

中国专利 :CN104746127B ,2015-07-01

[2]

特别用于电化学法制备氯的电解槽 [P].

F·格斯特尔曼 ;

H·－D·平特 ;

A·布兰 ;

W·克勒斯珀 .

中国专利 :CN1564878A ,2005-01-12

[3]

离心电化学法制备石墨烯的装置及方法 [P].

陈杰 ;

陈文苗 ;

王凡 ;

骆艳华 ;

裴晓东 ;

邓翔 ;

朱叶峰 ;

钱有军 .

中国专利 :CN113929088A ,2022-01-14

[4]

一种电化学法制备电极系统 [P].

金大春 .

中国专利 :CN113737255B ,2021-12-03

[5]

光辅助多孔硅电化学腐蚀槽 [P].

闻永祥 ;

刘琛 ;

季峰 ;

江为团 .

中国专利 :CN202543375U ,2012-11-21

[6]

光辅助多孔硅电化学腐蚀槽 [P].

闻永祥 ;

刘琛 ;

季峰 ;

江为团 .

中国专利 :CN102618914A ,2012-08-01

[7]

一种电化学法制备石墨烯过滤装置 [P].

周久顺 ;

王复涛 ;

王金鑫 ;

李伟 ;

丁古巧 .

中国专利 :CN223628171U ,2025-12-05

[8]

一种电化学法制备锡酸盐的方法 [P].

胡广兴 ;

景文甲 ;

马殿普 ;

朱仁阳 ;

何棋 ;

武信 ;

陈丽诗 .

中国专利 :CN121161311A ,2025-12-19

[9]

水热-电化学法制备金刚石膜 [P].

李扬 ;

张贵锋 ;

赵凡 ;

侯晓多 ;

邓德伟 .

中国专利 :CN102605413B ,2012-07-25

[10]

一种电化学法制备金属钛的装置及其方法 [P].

郝德利 ;

叶丽光 .

中国专利 :CN106917113A ,2017-07-04

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