光刻版图形位置偏差检查方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201010578151.7
申请日
2010-12-08
公开(公告)号
CN102540735A
公开(公告)日
2012-07-04
发明(设计)人
黄玮
申请人
申请人地址
214028 江苏省无锡市国家高新技术产业开发区新洲路8号
IPC主分类号
G03F720
IPC分类号
代理机构
代理人
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
减小芯片埋置与光刻图形位置偏差的方法及装置 [P]. 
陶宇骁 ;
杨晓 ;
张成瑞 ;
周亮 .
中国专利 :CN110517961B ,2019-11-29
[2]
基板位置偏差检测装置及基板位置偏差检测方法 [P]. 
山冈秀嗣 ;
石冈圣悟 .
中国专利 :CN1263996C ,2004-07-07
[3]
曝光图形位置偏差的校正系统及校正方法 [P]. 
刘智龙 ;
贺晓彬 ;
丁明正 ;
刘强 ;
杨涛 .
中国专利 :CN114384766A ,2022-04-22
[4]
曝光图形位置偏差的校正系统及校正方法 [P]. 
刘智龙 ;
贺晓彬 ;
丁明正 ;
刘强 ;
杨涛 .
中国专利 :CN114384766B ,2024-06-18
[5]
双面图形位置相对偏差的测量设备 [P]. 
胡茂尚 ;
徐登峰 .
中国专利 :CN106370105A ,2017-02-01
[6]
双面图形位置相对偏差的测量设备 [P]. 
胡茂尚 ;
徐登峰 .
中国专利 :CN206095153U ,2017-04-12
[7]
位置偏差修正装置,控制位置偏差的方法,以及图像形成设备 [P]. 
池田博昭 .
中国专利 :CN101105667A ,2008-01-16
[8]
一种掩膜版局部图形位置偏差补偿方法 [P]. 
徐智俊 ;
熊启龙 .
中国专利 :CN117970754A ,2024-05-03
[9]
相机的位置偏差测定方法 [P]. 
川崎智纪 .
中国专利 :CN115697652A ,2023-02-03
[10]
相机的位置偏差测定方法 [P]. 
川崎智纪 .
日本专利 :CN115697652B ,2025-10-03