化学机械抛光垫的调节的前馈和反馈控制

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02814767.7

申请日：

2002-06-17

公开(公告)号：

CN1535196A

公开(公告)日：

2004-10-06

发明(设计)人：

Y·J·派克

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

B24B3704

IPC分类号：

B24B4918 B24B53007

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

赵蓉民

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2004-10-06	公开	公开
2004-12-22	实质审查的生效	实质审查的生效
2010-01-06	专利权的视为放弃	专利权的视为放弃

共 50 条

[1]

提高垫寿命的化学机械抛光垫调节器方向速度控制 [P].

Y·J·派克 .

中国专利 :CN1524027A ,2004-08-25

[2]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[3]

化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫 [P].

梅英杰 ;

鲁航 ;

王凯 ;

田骐源 ;

袁文杰 ;

高彦升 ;

闫晨凯 .

中国专利 :CN118721051B ,2025-08-29

[4]

化学机械抛光垫的抛光层的制备方法和化学机械抛光垫 [P].

梅英杰 ;

鲁航 ;

王凯 ;

田骐源 ;

袁文杰 ;

高彦升 ;

闫晨凯 .

中国专利 :CN118721051A ,2024-10-01

[5]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[6]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

T·T·克韦纳克 .

中国专利 :CN101642897A ,2010-02-10

[7]

化学机械抛光垫 [P].

叶逢蓟 ;

钱百年 .

美国专利 :CN119748316A ,2025-04-04

[8]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

[9]

化学机械抛光垫 [P].

张泽芳 ;

彭诗月 .

中国专利 :CN209466099U ,2019-10-08

[10]

化学机械抛光垫 [P].

T·T·克韦纳克 ;

A·S·拉文 ;

C·A·福西特 ;

K·A·普莱贡 ;

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN101306517B ,2008-11-19

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