提高垫寿命的化学机械抛光垫调节器方向速度控制

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN02813615.2

申请日：

2002-06-17

公开(公告)号：

CN1524027A

公开(公告)日：

2004-08-25

发明(设计)人：

Y·J·派克

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚州

IPC主分类号：

B24B3704

IPC分类号：

B24B4918 B24B53007

代理机构：

北京纪凯知识产权代理有限公司

代理人：

赵蓉民

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2004-08-25	公开	公开
2004-10-27	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-08-24	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101099507884 IPC(主分类):B24B 37/04 专利号:ZL028136152 申请日:20020617 授权公告日:20100106 终止日期:20100617
2010-01-06	授权	授权

共 50 条

[1]

化学机械抛光垫的调节的前馈和反馈控制 [P].

Y·J·派克 .

中国专利 :CN1535196A ,2004-10-06

[2]

垫调节器及化学机械抛光方法 [P].

申宪桦 ;

匡训冲 .

中国专利 :CN112743449A ,2021-05-04

[3]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[4]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

T·T·克韦纳克 .

中国专利 :CN101642897A ,2010-02-10

[5]

化学机械抛光垫 [P].

叶逢蓟 ;

钱百年 .

美国专利 :CN119748316A ,2025-04-04

[6]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

[7]

化学机械抛光垫 [P].

张泽芳 ;

彭诗月 .

中国专利 :CN209466099U ,2019-10-08

[8]

化学机械抛光垫 [P].

T·T·克韦纳克 ;

A·S·拉文 ;

C·A·福西特 ;

K·A·普莱贡 ;

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN101306517B ,2008-11-19

[9]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 ;

D·B·詹姆斯 ;

R·F·安特瑞 .

中国专利 :CN101204795A ,2008-06-25

[10]

化学机械抛光装置的调节器 [P].

蔡熙成 ;

金志郁 .

中国专利 :CN204868552U ,2015-12-16

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