垫调节器及化学机械抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011178462.4

申请日：

2020-10-29

公开(公告)号：

CN112743449A

公开(公告)日：

2021-05-04

发明(设计)人：

申宪桦匡训冲

申请人：

申请人地址：

中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行六路八号（邮递区号30078）

IPC主分类号：

B24B3724

IPC分类号：

B24B3734 B24B37005 B24B4900 H01L2102 H01L2167

代理机构：

北京派特恩知识产权代理有限公司 11270

代理人：

薛恒;王琳

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-05-04	公开	公开

共 50 条

[1]

化学机械抛光装置的调节器 [P].

蔡熙成 ;

金志郁 .

中国专利 :CN204868552U ,2015-12-16

[2]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘宇宏 ;

韩桂全 ;

雒建斌 ;

郭丹 ;

路新春 .

中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25

[3]

抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

刘聪 .

中国专利 :CN119772781A ,2025-04-08

[4]

化学机械抛光垫调节器及其制造方法 [P].

金信京 ;

金圣奎 ;

朴东阅 ;

金刚俊 ;

金敬真 ;

金兑炫 .

中国专利 :CN112223133A ,2021-01-15

[5]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28

[6]

化学机械抛光垫 [P].

M·J·库尔普 .

中国专利 :CN100540224C ,2007-11-28

[7]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[8]

化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

保坂幸生 ;

长谷川亨 ;

川桥信夫 .

中国专利 :CN100352605C ,2005-03-09

[9]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

田野裕之 ;

保坂幸生 ;

西村秀树 .

中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22

[10]

提高垫寿命的化学机械抛光垫调节器方向速度控制 [P].

Y·J·派克 .

中国专利 :CN1524027A ,2004-08-25

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