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抛光垫及化学机械抛光方法

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202510175339.3
申请日：
2025-02-17
公开(公告)号：
CN119772781A
公开(公告)日：
2025-04-08
发明(设计)人：
刘聪
申请人：
上海积塔半导体有限公司
申请人地址：
201306 上海市浦东新区自由贸易试验区临港新片区云水路600号
IPC主分类号：
B24B37/26
IPC分类号：
B24B37/10 B24B7/22 B24B1/00
代理机构：
上海光华专利事务所(普通合伙) 31219
代理人：
罗泳文
法律状态：
实质审查的生效
国省代码：
上海市
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2025-04-25 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):B24B 37/26申请日:20250217
2025-04-08 公开 公开
共 50 条
[1]
化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P]. 
刘宇宏 ;
韩桂全 ;
雒建斌 ;
郭丹 ;
路新春 .
中国专利 :CN102601727A ,2012-07-25
[2]
化学机械抛光垫 [P]. 
M·J·库尔普 .
中国专利 :CN100540225C ,2007-11-28
[3]
化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P]. 
西村秀树 ;
清水崇文 ;
栗山敬祐 ;
辻昭卫 .
中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04
[4]
化学机械抛光垫 [P]. 
M·J·库尔普 .
中国专利 :CN100540224C ,2007-11-28
[5]
化学机械抛光垫以及化学机械抛光方法 [P]. 
志保浩司 ;
保坂幸生 ;
长谷川亨 ;
川桥信夫 .
中国专利 :CN100352605C ,2005-03-09
[6]
化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P]. 
志保浩司 ;
田野裕之 ;
保坂幸生 ;
西村秀树 .
中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22
[7]
抛光垫及化学机械抛光设备 [P]. 
蒲以松 ;
惠聪 ;
阴俊沛 .
中国专利 :CN110802508B ,2020-02-18
[8]
化学机械抛光垫 [P]. 
B·钱 ;
F·叶 ;
T-C·王 ;
S-H·曾 ;
K·W-H·佟 ;
M·W·德格鲁特 .
中国专利 :CN108687654A ,2018-10-23
[9]
化学机械抛光垫 [P]. 
M·J·库尔普 ;
T·T·克韦纳克 .
中国专利 :CN101642897A ,2010-02-10
[10]
化学机械抛光垫 [P]. 
叶逢蓟 ;
钱百年 .
美国专利 :CN119748316A ,2025-04-04
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