一种半导体清洗剂及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202011473109.9

申请日：

2020-12-15

公开(公告)号：

CN112592771A

公开(公告)日：

2021-04-02

发明(设计)人：

骆祖文

申请人：

申请人地址：

250000 山东省济南市商河县经济开发区科源街50号

IPC主分类号：

C11D183

IPC分类号：

C11D320 C11D304 C11D333 C11D360 C11D1100

代理机构：

济南千慧专利事务所(普通合伙企业) 37232

代理人：

种道北

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-04-23	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C11D 1/83 申请日:20201215
2021-04-02	公开	公开

共 50 条

[1]

半导体硅片中性水基清洗剂及其制备方法 [P].

朱汪龙 ;

朱玲 .

中国专利 :CN108300592A ,2018-07-20

[2]

一种半导体封装业用水基清洗剂及其制备方法 [P].

郭艳萍 ;

王琏 .

中国专利 :CN117187004B ,2024-06-25

[3]

一种半导体级石英环清洗剂及其制备方法 [P].

胡柏星 ;

王晓亮 ;

何其慧 ;

陈凡 ;

谢梦凡 .

中国专利 :CN119823835A ,2025-04-15

[4]

中性水基清洗剂及其制备方法和半导体封装清洗方法 [P].

郭艳萍 ;

黄霖 .

中国专利 :CN106701343B ,2017-05-24

[5]

一种清洗剂及其制备方法 [P].

陈水权 ;

董雯俊 ;

谢中沟 .

中国专利 :CN114806736A ,2022-07-29

[6]

油污清洗剂及其制备方法、油污清洗方法 [P].

童星 ;

童怀洲 ;

王婵 ;

宋启军 ;

项东亮 ;

杜永卫 .

中国专利 :CN121136780A ,2025-12-16

[7]

一种半导体材料表面脱脂处理的清洗剂 [P].

王燕清 ;

杨佐东 .

中国专利 :CN113980747A ,2022-01-28

[8]

油污清洗剂及其制备方法 [P].

王希贵 .

中国专利 :CN104031755A ,2014-09-10

[9]

玻璃清洗剂及其制备方法 [P].

董绍胜 .

中国专利 :CN103849509A ,2014-06-11

[10]

一种铜清洗剂及其制备方法 [P].

张丹 ;

刘帅 ;

郑磊 ;

季静怡 ;

苏青春 .

中国专利 :CN110760861A ,2020-02-07

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