半导体硅片中性水基清洗剂及其制备方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201810095063.8

申请日：

2018-01-31

公开(公告)号：

CN108300592A

公开(公告)日：

2018-07-20

发明(设计)人：

朱汪龙朱玲

申请人：

申请人地址：

214000 江苏省无锡市新吴区景贤路52号

IPC主分类号：

C11D183

IPC分类号：

C11D320 C11D326 C11D328 C11D337 C11D360

代理机构：

南京经纬专利商标代理有限公司 32200

代理人：

余俊杰

法律状态：

发明专利申请公布后的驳回

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-04-09	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回 IPC(主分类):C11D 1/83 申请公布日:20180720
2018-07-20	公开	公开
2018-08-14	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):C11D 1/83 申请日:20180131

共 50 条

[1]

中性水基清洗剂及其制备方法和半导体封装清洗方法 [P].

郭艳萍 ;

黄霖 .

中国专利 :CN106701343B ,2017-05-24

[2]

用于清洗镜头及镜头组件的中性水基清洗剂 [P].

黄霖 ;

郭艳萍 .

中国专利 :CN108085173A ,2018-05-29

[3]

高效水基清洗剂 [P].

卢建兵 .

中国专利 :CN102936538A ,2013-02-20

[4]

一种半导体封装业用水基清洗剂及其制备方法 [P].

郭艳萍 ;

王琏 .

中国专利 :CN117187004B ,2024-06-25

[5]

一种半导体清洗剂及其制备方法 [P].

骆祖文 .

中国专利 :CN112592771A ,2021-04-02

[6]

一种半导体级石英环清洗剂及其制备方法 [P].

胡柏星 ;

王晓亮 ;

何其慧 ;

陈凡 ;

谢梦凡 .

中国专利 :CN119823835A ,2025-04-15

[7]

水基清洗剂及其制备方法和应用 [P].

郭艳萍 ;

杨鹏 .

中国专利 :CN114214130A ,2022-03-22

[8]

水基清洗剂及其制备方法与应用 [P].

李伟 ;

龙顺敏 ;

石晓松 ;

蒋泽银 ;

敬显武 ;

许园 ;

康郁 .

中国专利 :CN115124983A ,2022-09-30

[9]

一种半导体制程中使用的中性水基清洗剂组合物 [P].

刘小勇 ;

田博 ;

侯琳熙 ;

房龙翔 .

中国专利 :CN112175750A ,2021-01-05

[10]

一种环保型半导体硅片清洗剂及其清洗方法 [P].

仲跻和 .

中国专利 :CN107304385A ,2017-10-31

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