中性水基清洗剂及其制备方法和半导体封装清洗方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201611123366.3
申请日
2016-12-08
公开(公告)号
CN106701343B
公开(公告)日
2017-05-24
发明(设计)人
郭艳萍 黄霖
申请人
申请人地址
518054 广东省深圳市南山区登良路南油天安工业区5栋3D
IPC主分类号
C11D183
IPC分类号
C11D320 C11D360 H01L2102
代理机构
深圳中一专利商标事务所 44237
代理人
左光明
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
半导体硅片中性水基清洗剂及其制备方法 [P]. 
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朱玲 .
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[2]
一种半导体封装业用水基清洗剂及其制备方法 [P]. 
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王琏 .
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[3]
用于清洗镜头及镜头组件的中性水基清洗剂 [P]. 
黄霖 ;
郭艳萍 .
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[4]
水基清洗剂及其制备方法和应用 [P]. 
郭艳萍 ;
杨鹏 .
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[5]
高效水基清洗剂 [P]. 
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[6]
水基清洗剂及其制备方法与应用 [P]. 
李伟 ;
龙顺敏 ;
石晓松 ;
蒋泽银 ;
敬显武 ;
许园 ;
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[7]
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[8]
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王晓亮 ;
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[9]
一种半导体清洗剂及其制备方法 [P]. 
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[10]
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