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中性水基清洗剂及其制备方法和半导体封装清洗方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN201611123366.3
申请日
:
2016-12-08
公开(公告)号
:
CN106701343B
公开(公告)日
:
2017-05-24
发明(设计)人
:
郭艳萍
黄霖
申请人
:
申请人地址
:
518054 广东省深圳市南山区登良路南油天安工业区5栋3D
IPC主分类号
:
C11D183
IPC分类号
:
C11D320
C11D360
H01L2102
代理机构
:
深圳中一专利商标事务所 44237
代理人
:
左光明
法律状态
:
公开
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2017-05-24
公开
公开
2017-06-16
实质审查的生效
实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101727783430 IPC(主分类):C11D 1/83 专利申请号:2016111233663 申请日:20161208
2019-08-09
授权
授权
共 50 条
[1]
半导体硅片中性水基清洗剂及其制备方法
[P].
朱汪龙
论文数:
0
引用数:
0
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0
朱汪龙
;
朱玲
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0
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朱玲
.
中国专利
:CN108300592A
,2018-07-20
[2]
一种半导体封装业用水基清洗剂及其制备方法
[P].
郭艳萍
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机构:
深圳市合明科技有限公司
深圳市合明科技有限公司
郭艳萍
;
王琏
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机构:
深圳市合明科技有限公司
深圳市合明科技有限公司
王琏
.
中国专利
:CN117187004B
,2024-06-25
[3]
用于清洗镜头及镜头组件的中性水基清洗剂
[P].
黄霖
论文数:
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0
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0
黄霖
;
郭艳萍
论文数:
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郭艳萍
.
中国专利
:CN108085173A
,2018-05-29
[4]
水基清洗剂及其制备方法和应用
[P].
郭艳萍
论文数:
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郭艳萍
;
杨鹏
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杨鹏
.
中国专利
:CN114214130A
,2022-03-22
[5]
高效水基清洗剂
[P].
卢建兵
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卢建兵
.
中国专利
:CN102936538A
,2013-02-20
[6]
水基清洗剂及其制备方法与应用
[P].
李伟
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李伟
;
龙顺敏
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龙顺敏
;
石晓松
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石晓松
;
蒋泽银
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蒋泽银
;
敬显武
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敬显武
;
许园
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许园
;
康郁
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康郁
.
中国专利
:CN115124983A
,2022-09-30
[7]
汽车表面清洗剂及其制备方法
[P].
麦贤杰
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麦贤杰
.
中国专利
:CN107446719A
,2017-12-08
[8]
一种半导体级石英环清洗剂及其制备方法
[P].
论文数:
引用数:
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机构:
胡柏星
;
论文数:
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机构:
王晓亮
;
论文数:
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机构:
何其慧
;
论文数:
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机构:
陈凡
;
谢梦凡
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机构:
南京大学
南京大学
谢梦凡
.
中国专利
:CN119823835A
,2025-04-15
[9]
一种半导体清洗剂及其制备方法
[P].
骆祖文
论文数:
0
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0
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骆祖文
.
中国专利
:CN112592771A
,2021-04-02
[10]
油污清洗剂及其制备方法
[P].
王希贵
论文数:
0
引用数:
0
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0
王希贵
.
中国专利
:CN104031755A
,2014-09-10
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