EUV微光刻的照明光学系统和这种照明光学系统的EUV衰减器、具有这种照明光学系统的照明系统和投射曝光装置

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200980158506.2

申请日：

2009-03-27

公开(公告)号：

CN102365587A

公开(公告)日：

2012-02-29

发明(设计)人：

N.施米茨 J.哈特杰斯 U.宾格尔 B.普尼尼

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2012-04-11	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101222310552 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009801585062 申请日:20090327
2012-02-29	公开	公开
2015-07-22	授权	授权

共 50 条

[1]

EUV投射光刻的照明光学系统 [P].

A.温克勒 ;

D.楞次 ;

T.费希尔 .

中国专利 :CN107223217A ,2017-09-29

[2]

投射光刻的照明光学系统 [P].

T.刚 ;

J.范肖特 .

中国专利 :CN113168114A ,2021-07-23

[3]

投射光刻的照明光学系统 [P].

T.刚 ;

J.范肖特 .

德国专利 :CN113168114B ,2025-02-11

[4]

照明光学系统 [P].

小川润 .

中国专利 :CN201141973Y ,2008-10-29

[5]

照明光学系统 [P].

猪股亨 ;

桑垣内智仁 .

日本专利 :CN119630924A ,2025-03-14

[6]

照明光学系统 [P].

冈哲大 .

中国专利 :CN110168278A ,2019-08-23

[7]

照明光学系统 [P].

小西定幸 ;

树下佳百合 ;

石井健太 ;

坂上典久 ;

关大介 .

中国专利 :CN112243480A ,2021-01-19

[8]

照明光学系统 [P].

加茂裕二 ;

高头英泰 ;

笹本勉 .

中国专利 :CN102687059A ,2012-09-19

[9]

用于微光刻的照明光学系统 [P].

张祥翔 .

中国专利 :CN101477317B ,2009-07-08

[10]

照明光学系统和照明装置 [P].

花野和成 .

中国专利 :CN113993438A ,2022-01-28

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