投射光刻的照明光学系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201980078420.2

申请日：

2019-11-05

公开(公告)号：

CN113168114A

公开(公告)日：

2021-07-23

发明(设计)人：

T.刚 J.范肖特

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B508

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

王蕊瑞

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-07-23	公开	公开
2021-12-17	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/20 申请日:20191105

共 50 条

[1]

投射光刻的照明光学系统 [P].

T.刚 ;

J.范肖特 .

德国专利 :CN113168114B ,2025-02-11

[2]

用于投射光刻的照明光学系统 [P].

汉斯-于尔根.曼 .

中国专利 :CN102193334B ,2011-09-21

[3]

EUV投射光刻的照明光学系统 [P].

A.温克勒 ;

D.楞次 ;

T.费希尔 .

中国专利 :CN107223217A ,2017-09-29

[4]

用于微光刻的照明光学系统 [P].

张祥翔 .

中国专利 :CN101477317B ,2009-07-08

[5]

照明光学系统及采用该照明光学系统的光刻设备 [P].

何志远 ;

马鹏川 .

中国专利 :CN107450274A ,2017-12-08

[6]

EUV微光刻的照明光学系统和这种照明光学系统的EUV衰减器、具有这种照明光学系统的照明系统和投射曝光装置 [P].

N.施米茨 ;

J.哈特杰斯 ;

U.宾格尔 ;

B.普尼尼 .

中国专利 :CN102365587A ,2012-02-29

[7]

用于微光刻的照明光学系统与光学系统 [P].

马丁.恩德雷斯 .

中国专利 :CN102422225A ,2012-04-18

[8]

EUV投射光刻的照明光学单元及包含该照明光学单元的光学系统 [P].

M.帕特拉 ;

M.德冈瑟 .

中国专利 :CN104246617B ,2014-12-24

[9]

照明光学系统 [P].

猪股亨 ;

桑垣内智仁 .

日本专利 :CN119630924A ,2025-03-14

[10]

照明光学系统 [P].

小川润 .

中国专利 :CN201141973Y ,2008-10-29

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