用于微光刻的照明光学系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910046061.0

申请日：

2009-02-10

公开(公告)号：

CN101477317B

公开(公告)日：

2009-07-08

发明(设计)人：

张祥翔

申请人：

申请人地址：

201203 上海市张江高科技园区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2017-07-04	专利权人的姓名或者名称、地址的变更	专利权人的姓名或者名称、地址的变更号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101754732233 IPC(主分类):G03F 7/20 专利号:ZL2009100460610 变更事项:专利权人变更前:上海微电子装备有限公司变更后:上海微电子装备(集团)股份有限公司变更事项:地址变更前:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号变更后:201203 上海市张江高科技园区张东路1525号
2009-07-08	公开	公开
2009-09-02	实质审查的生效	实质审查的生效
2011-06-29	授权	授权

共 50 条

[1]

一种用于微光刻的照明光学系统 [P].

李仲禹 ;

李铁军 .

中国专利 :CN100547489C ,2008-04-23

[2]

一种用于微光刻的照明光学系统 [P].

张祥翔 .

中国专利 :CN101216676A ,2008-07-09

[3]

用于微光刻的照明光学系统与光学系统 [P].

马丁.恩德雷斯 .

中国专利 :CN102422225A ,2012-04-18

[4]

一种用于微光刻的照明光学系统 [P].

胡斌 .

中国专利 :CN102063014A ,2011-05-18

[5]

投射光刻的照明光学系统 [P].

T.刚 ;

J.范肖特 .

中国专利 :CN113168114A ,2021-07-23

[6]

投射光刻的照明光学系统 [P].

T.刚 ;

J.范肖特 .

德国专利 :CN113168114B ,2025-02-11

[7]

用于投射光刻的照明光学系统 [P].

汉斯-于尔根.曼 .

中国专利 :CN102193334B ,2011-09-21

[8]

照明光学系统及采用该照明光学系统的光刻设备 [P].

何志远 ;

马鹏川 .

中国专利 :CN107450274A ,2017-12-08

[9]

EUV微光刻的照明光学系统和这种照明光学系统的EUV衰减器、具有这种照明光学系统的照明系统和投射曝光装置 [P].

N.施米茨 ;

J.哈特杰斯 ;

U.宾格尔 ;

B.普尼尼 .

中国专利 :CN102365587A ,2012-02-29

[10]

一种光刻照明光学系统 [P].

胡斌 .

中国专利 :CN102566294A ,2012-07-11

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