一种用于微光刻的照明光学系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200910198739.7

申请日：

2009-11-13

公开(公告)号：

CN102063014A

公开(公告)日：

2011-05-18

发明(设计)人：

胡斌

申请人：

申请人地址：

201203 上海市张江高科技园区张东路1525号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B2700

代理机构：

北京连和连知识产权代理有限公司 11278

代理人：

王光辉

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2011-07-20	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101088110307 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009101987397 申请日:20091113
2011-05-18	公开	公开
2013-03-06	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101526000804 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2009101987397 申请公布日:20110518

共 50 条

[1]

用于微光刻的照明光学系统 [P].

张祥翔 .

中国专利 :CN101477317B ,2009-07-08

[2]

用于微光刻的照明光学系统与光学系统 [P].

马丁.恩德雷斯 .

中国专利 :CN102422225A ,2012-04-18

[3]

一种用于微光刻的照明光学系统 [P].

李仲禹 ;

李铁军 .

中国专利 :CN100547489C ,2008-04-23

[4]

一种用于微光刻的照明光学系统 [P].

张祥翔 .

中国专利 :CN101216676A ,2008-07-09

[5]

一种光刻照明光学系统 [P].

胡斌 .

中国专利 :CN102566294A ,2012-07-11

[6]

用于投射光刻的照明光学系统 [P].

汉斯-于尔根.曼 .

中国专利 :CN102193334B ,2011-09-21

[7]

投射光刻的照明光学系统 [P].

T.刚 ;

J.范肖特 .

中国专利 :CN113168114A ,2021-07-23

[8]

投射光刻的照明光学系统 [P].

T.刚 ;

J.范肖特 .

德国专利 :CN113168114B ,2025-02-11

[9]

照明光学系统及采用该照明光学系统的光刻设备 [P].

何志远 ;

马鹏川 .

中国专利 :CN107450274A ,2017-12-08

[10]

EUV投射光刻的照明光学系统 [P].

A.温克勒 ;

D.楞次 ;

T.费希尔 .

中国专利 :CN107223217A ,2017-09-29

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