用于投射光刻的照明光学系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110064478.7

申请日：

2011-03-17

公开(公告)号：

CN102193334B

公开(公告)日：

2011-09-21

发明(设计)人：

汉斯-于尔根.曼

申请人：

申请人地址：

德国上科亨

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G02B2608 G02B110

代理机构：

北京市柳沈律师事务所 11105

代理人：

邱军

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2015-07-29	授权	授权
2011-09-21	公开	公开
2012-11-14	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101346530962 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011100644787 申请日:20110317

共 50 条

[1]

投射光刻的照明光学系统 [P].

T.刚 ;

J.范肖特 .

中国专利 :CN113168114A ,2021-07-23

[2]

投射光刻的照明光学系统 [P].

T.刚 ;

J.范肖特 .

德国专利 :CN113168114B ,2025-02-11

[3]

EUV投射光刻的照明光学系统 [P].

A.温克勒 ;

D.楞次 ;

T.费希尔 .

中国专利 :CN107223217A ,2017-09-29

[4]

用于微光刻的照明光学系统 [P].

张祥翔 .

中国专利 :CN101477317B ,2009-07-08

[5]

用于微光刻的照明光学系统与光学系统 [P].

马丁.恩德雷斯 .

中国专利 :CN102422225A ,2012-04-18

[6]

照明光学系统及采用该照明光学系统的光刻设备 [P].

何志远 ;

马鹏川 .

中国专利 :CN107450274A ,2017-12-08

[7]

EUV投射光刻的照明光学单元及包含该照明光学单元的光学系统 [P].

M.帕特拉 ;

M.德冈瑟 .

中国专利 :CN104246617B ,2014-12-24

[8]

照明光学系统 [P].

猪股亨 ;

桑垣内智仁 .

日本专利 :CN119630924A ,2025-03-14

[9]

照明光学系统 [P].

小川润 .

中国专利 :CN201141973Y ,2008-10-29

[10]

照明光学系统 [P].

冈哲大 .

中国专利 :CN110168278A ,2019-08-23

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