化学机械抛光方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410487213.1

申请日：

2014-09-22

公开(公告)号：

CN105513961A

公开(公告)日：

2016-04-20

发明(设计)人：

朱宏亮王爱兵

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

H01L21321

IPC分类号：

H01L213105

代理机构：

上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人：

屈蘅;李时云

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-04-20	公开	公开
2016-05-18	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101660904566 IPC(主分类):H01L 21/321 专利申请号:2014104872131 申请日:20140922
2020-09-29	授权	授权

共 50 条

[1]

化学机械抛光方法和化学机械抛光设备 [P].

邵群 ;

王庆玲 .

中国专利 :CN103035504B ,2013-04-10

[2]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120134207B ,2025-08-19

[3]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120862551A ,2025-10-31

[4]

化学机械抛光设备及化学机械抛光方法 [P].

李洪阳 ;

陈映松 ;

许振杰 ;

李长坤 ;

王科 .

中国专利 :CN120134207A ,2025-06-13

[5]

化学机械抛光的方法 [P].

蒋莉 .

中国专利 :CN104723208A ,2015-06-24

[6]

化学机械抛光的方法 [P].

蒋莉 ;

程继 ;

熊世伟 .

中国专利 :CN104716035A ,2015-06-17

[7]

化学机械抛光方法 [P].

王贤超 ;

奚民伟 .

中国专利 :CN104802071A ,2015-07-29

[8]

化学机械抛光装置和化学机械抛光方法 [P].

铃木三惠子 ;

土屋泰章 .

中国专利 :CN1098746C ,1999-09-01

[9]

化学机械抛光垫和化学机械抛光方法 [P].

西村秀树 ;

清水崇文 ;

栗山敬祐 ;

辻昭卫 .

中国专利 :CN1990183A ,2007-07-04

[10]

化学机械抛光垫及化学机械抛光方法 [P].

志保浩司 ;

田野裕之 ;

保坂幸生 ;

西村秀树 .

中国专利 :CN1864929A ,2006-11-22

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