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电沉积金-碳化硅复合镀层
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN85100021.5
申请日
:
1985-04-01
公开(公告)号
:
CN85100021A
公开(公告)日
:
1986-01-10
发明(设计)人
:
郭鹤桐
王兆勇
邱训高
申请人
:
申请人地址
:
天津市南开区七里台
IPC主分类号
:
C25D1500
IPC分类号
:
C25D348
H01H102
代理机构
:
天津大学专利代理事务所
代理人
:
张宏祥;曲远方
法律状态
:
审定
国省代码
:
引用
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
1989-06-14
审定
审定
1989-04-12
实质审查请求
实质审查请求
1990-04-04
授权
授权
1991-08-07
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
专利权的终止未缴纳年费专利权终止
共 50 条
[1]
电沉积制备镍钴碳化硅复合镀层的方法
[P].
阚洪敏
论文数:
0
引用数:
0
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阚洪敏
;
孟媛媛
论文数:
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孟媛媛
;
王晓阳
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王晓阳
;
龙海波
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龙海波
;
孔令明
论文数:
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0
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孔令明
;
陈硕
论文数:
0
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0
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陈硕
.
中国专利
:CN112981477A
,2021-06-18
[2]
一种用于碳化硅外延设备的互锁模块及碳化硅外延设备
[P].
刘中良
论文数:
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机构:
芯三代半导体科技(苏州)股份有限公司
芯三代半导体科技(苏州)股份有限公司
刘中良
;
费戴扬
论文数:
0
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机构:
芯三代半导体科技(苏州)股份有限公司
芯三代半导体科技(苏州)股份有限公司
费戴扬
;
向阳
论文数:
0
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机构:
芯三代半导体科技(苏州)股份有限公司
芯三代半导体科技(苏州)股份有限公司
向阳
.
中国专利
:CN221566372U
,2024-08-20
[3]
电沉积耐磨减摩银基复合镀层
[P].
郭鹤桐
论文数:
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郭鹤桐
;
覃奇贤
论文数:
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覃奇贤
;
陈一新
论文数:
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0
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陈一新
.
中国专利
:CN85100022A
,1986-01-10
[4]
碳化硅半导体器件
[P].
内田光亮
论文数:
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内田光亮
;
日吉透
论文数:
0
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0
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日吉透
.
中国专利
:CN105304713A
,2016-02-03
[5]
碳化硅半导体器件
[P].
原田真
论文数:
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原田真
;
玉祖秀人
论文数:
0
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玉祖秀人
;
畑山智亮
论文数:
0
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0
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0
畑山智亮
.
中国专利
:CN102171827A
,2011-08-31
[6]
碳化硅的制造方法
[P].
久保田芳宏
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0
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久保田芳宏
;
大崎浩美
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大崎浩美
;
望月正裕
论文数:
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望月正裕
.
中国专利
:CN102482102A
,2012-05-30
[7]
内衬反应烧结碳化硅陶瓷复合管
[P].
王明峰
论文数:
0
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0
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王明峰
;
亓锡云
论文数:
0
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0
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亓锡云
;
姜刚
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0
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姜刚
;
石威
论文数:
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0
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石威
.
中国专利
:CN204628968U
,2015-09-09
[8]
一种碳化硅模具
[P].
马红彬
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0
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马红彬
;
李乐乐
论文数:
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0
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李乐乐
;
陈志伟
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陈志伟
;
郭赛
论文数:
0
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0
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郭赛
.
中国专利
:CN202685362U
,2013-01-23
[9]
一种金属液体与碳化硅复合方法
[P].
张学军
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张学军
;
张一丰
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0
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0
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张一丰
.
中国专利
:CN111375744A
,2020-07-07
[10]
降低碳化硅电阻的背面欧姆接触中间体及碳化硅器件
[P].
李俊
论文数:
0
引用数:
0
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机构:
杰平方半导体(上海)有限公司
杰平方半导体(上海)有限公司
李俊
.
中国专利
:CN220963240U
,2024-05-14
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