光刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200810207523.8

申请日：

2008-12-19

公开(公告)号：

CN101752228B

公开(公告)日：

2010-06-23

发明(设计)人：

胡骏胡友存

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

H01L21027

IPC分类号：

G03F720

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

李丽

法律状态：

专利权的终止

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-12-06	专利权的终止	未缴年费专利权终止 IPC(主分类):H01L 21/027 申请日:20081219 授权公告日:20110817 终止日期:20181219
2010-08-18	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101004904715 IPC(主分类):H01L 21/027 专利申请号:2008102075238 申请日:20081219
2010-06-23	公开	公开
2011-08-17	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻方法 [P].

张海洋 ;

黄怡 ;

张世谋 .

中国专利 :CN101937175A ,2011-01-05

[2]

光刻曝光方法 [P].

王壮 ;

宋振伟 ;

张其学 ;

樊航 ;

王雷 .

中国专利 :CN119200339A ,2024-12-27

[3]

光刻方法及光刻系统 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN117555205A ,2024-02-13

[4]

光刻装置及光刻方法 [P].

彭长四 ;

刘晟 ;

高雅琨 ;

石震武 .

中国专利 :CN114690569A ,2022-07-01

[5]

光刻方法及光刻系统 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN117555205B ,2024-11-29

[6]

光刻系统和光刻方法 [P].

张祥平 ;

李天慧 ;

许刚 ;

藤井光一 .

中国专利 :CN108983557B ,2018-12-11

[7]

光刻方法 [P].

黄涛 .

中国专利 :CN110865520A ,2020-03-06

[8]

光刻方法 [P].

P·D·休斯塔德 ;

J·K·朴 .

中国专利 :CN105739237A ,2016-07-06

[9]

光刻方法 [P].

朴钟根 ;

C·N·李 ;

C·安德斯 ;

李忠奉 .

中国专利 :CN105022224A ,2015-11-04

[10]

光刻方法 [P].

周孟兴 .

中国专利 :CN101344721A ,2009-01-14

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