光刻装置及光刻方法

被引：0

申请号：

CN202011568963.3

申请日：

2020-12-25

公开(公告)号：

CN114690569A

公开(公告)日：

2022-07-01

发明(设计)人：

彭长四刘晟高雅琨石震武

申请人：

申请人地址：

518129 广东省深圳市龙岗区坂田华为总部办公楼

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

G03F716 G03F736

代理机构：

北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319

代理人：

王洪

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2022-07-01	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻曝光机及光刻曝光方法 [P].

张辰明 ;

刘志成 ;

杨要华 ;

胡骏 .

中国专利 :CN102466978B ,2012-05-23

[2]

光刻系统和光刻方法 [P].

张祥平 ;

李天慧 ;

许刚 ;

藤井光一 .

中国专利 :CN108983557B ,2018-12-11

[3]

一种光刻版、光刻版制作装置及光刻版制作方法 [P].

王奕森 ;

张哲玮 .

中国专利 :CN119644666A ,2025-03-18

[4]

光刻方法 [P].

胡骏 ;

胡友存 .

中国专利 :CN101752228B ,2010-06-23

[5]

光刻对准装置、其使用方法及光刻机 [P].

伍强 ;

姚欣 .

中国专利 :CN103186060B ,2013-07-03

[6]

光刻方法 [P].

董俊 ;

张其学 ;

王雷 ;

宋振伟 .

中国专利 :CN115685702A ,2023-02-03

[7]

光刻方法 [P].

安辉 ;

郝静安 .

中国专利 :CN102314078A ,2012-01-11

[8]

光刻聚焦装置、方法及系统 [P].

梁晋楠 ;

唐文尧 ;

郭晓波 .

中国专利 :CN118981148A ,2024-11-19

[9]

一种光刻版及光刻系统 [P].

王奕森 ;

张哲玮 .

中国专利 :CN223513434U ,2025-11-04

[10]

光刻曝光装置 [P].

洪飞 ;

龚志清 ;

查俊 .

中国专利 :CN217467463U ,2022-09-20

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