一种光刻版、光刻版制作装置及光刻版制作方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411914083.5

申请日：

2024-12-24

公开(公告)号：

CN119644666A

公开(公告)日：

2025-03-18

发明(设计)人：

王奕森张哲玮

申请人：

青岛方益技术有限公司

申请人地址：

266426 山东省青岛市自由贸易试验区青岛片区太白山路172号中德生态园双创中心6671室

IPC主分类号：

G03F1/48

IPC分类号：

代理机构：

北京汉之知识产权代理事务所(普通合伙) 11479

代理人：

田磊

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-03-18	公开	公开
2025-04-04	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 1/48申请日:20241224

共 50 条

[1]

一种光刻版及光刻系统 [P].

王奕森 ;

张哲玮 .

中国专利 :CN223513434U ,2025-11-04

[2]

光刻装置及光刻方法 [P].

彭长四 ;

刘晟 ;

高雅琨 ;

石震武 .

中国专利 :CN114690569A ,2022-07-01

[3]

压印光刻用复制模制作装置及其制作方法 [P].

具滋鹏 ;

金泰完 ;

权相民 ;

郑熙锡 .

中国专利 :CN111208708B ,2020-05-29

[4]

数字光刻微雕的制作装置及其雕刻制作方法 [P].

龚勇清 ;

苏兆国 ;

周张钰 ;

龚艺川 ;

田红彦 ;

高益庆 ;

罗宁宁 ;

方利华 ;

徐冉冉 .

中国专利 :CN103472683A ,2013-12-25

[5]

具有前馈调焦装置的光刻装置及器件制作方法 [P].

H·布特 ;

M·E·J·布恩曼 ;

P·M·C·M·范登比格拉亚尔 .

中国专利 :CN100576081C ,2005-08-24

[6]

水平传感器、光刻设备以及器件制作方法 [P].

A·J·A·布鲁恩斯马 ;

F·斯塔尔斯 ;

R·J·凡威杰克 ;

S·尼蒂阿洛夫 .

中国专利 :CN100549833C ,2006-07-05

[7]

一种以金属玻璃为光刻胶的光刻方法及系统 [P].

缪向水 ;

曾笔鉴 ;

李震 ;

黄君竹 .

中国专利 :CN103048888B ,2013-04-17

[8]

一种光刻胶及其制备方法和应用以及光刻方法 [P].

肖楠 ;

宋里千 .

中国专利 :CN109212919A ,2019-01-15

[9]

一种基于负性光刻胶的扩散片光刻工艺方法 [P].

张彤 ;

李若舟 ;

张晓阳 .

中国专利 :CN102520591A ,2012-06-27

[10]

一种光刻胶剥离方法 [P].

郭登极 ;

钟伟威 ;

廖健翔 ;

胡作寰 ;

高国利 ;

杨彦东 ;

孟凡远 ;

顾鸿玮 ;

王序进 .

中国专利 :CN118588535A ,2024-09-03

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