一种光刻胶及其制备方法和应用以及光刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201811265920.0

申请日：

2018-10-29

公开(公告)号：

CN109212919A

公开(公告)日：

2019-01-15

发明(设计)人：

肖楠宋里千

申请人：

申请人地址：

361000 福建省厦门市中国（福建）自由贸易试验区厦门片区嵩屿南二路99号1303室之882

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

代理机构：

厦门市精诚新创知识产权代理有限公司 35218

代理人：

赖秀华

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2019-02-12	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/42 申请日:20181029
2019-03-05	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移 IPC(主分类):G03F 7/42 登记生效日:20190213 变更事项:申请人变更前权利人:泓坤微电子（厦门）有限公司变更后权利人:福建泓光半导体材料有限公司变更事项:地址变更前权利人:361000 福建省厦门市中国（福建）自由贸易试验区厦门片区嵩屿南二路99号1303室之882 变更后权利人:363000 福建省漳州高新区九湖镇林前村林前773号
2019-01-15	公开	公开
2022-02-08	授权	授权

共 50 条

[1]

一种耐刻蚀的光刻胶及其制备方法和应用以及光刻方法 [P].

肖楠 ;

宋里千 .

中国专利 :CN109426100A ,2019-03-05

[2]

负性光刻胶组合物及其制备方法和应用 [P].

侯远杨 ;

刁莹雪 ;

鲁代仁 ;

李冰 ;

孙嘉 ;

董栋 ;

张宁 .

中国专利 :CN117631453A ,2024-03-01

[3]

一种EUV光刻胶及其制备方法和应用 [P].

王溯 ;

方书农 .

中国专利 :CN117148669B ,2025-11-14

[4]

光刻胶及光刻方法 [P].

袁华 ;

黄永发 ;

杨尚勇 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110501873A ,2019-11-26

[5]

光刻胶及其制备方法和应用 [P].

许琪伟 ;

杨金慧 ;

周东站 ;

吕学良 ;

张洋 ;

李开宇 ;

魏东萌 ;

蒲文轩 ;

门孝菊 .

中国专利 :CN119414659A ,2025-02-11

[6]

光刻胶及其制备方法和应用 [P].

许琪伟 ;

杨金慧 ;

周东站 ;

吕学良 ;

张洋 ;

李开宇 ;

魏东萌 ;

蒲文轩 ;

门孝菊 .

中国专利 :CN119414659B ,2025-04-25

[7]

一种光刻胶、光刻胶应用以及应用工艺 [P].

丁德锐 ;

杨艳 ;

伍佩铭 .

中国专利 :CN117572722A ,2024-02-20

[8]

一种光刻胶及其制备方法和应用 [P].

任新宇 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN120428517A ,2025-08-05

[9]

一种基体树脂、光刻胶组合物、光刻胶及其制备方法和应用 [P].

张宁 ;

王文芳 ;

房彩琴 ;

董栋 ;

刘忠范 .

中国专利 :CN119775469B ,2025-08-22

[10]

一种基体树脂、光刻胶组合物、光刻胶及其制备方法和应用 [P].

张宁 ;

王文芳 ;

房彩琴 ;

董栋 ;

刘忠范 .

中国专利 :CN119775469A ,2025-04-08

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