一种EUV光刻胶及其制备方法和应用

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202210576174.7

申请日：

2022-05-24

公开(公告)号：

CN117148669B

公开(公告)日：

2025-11-14

发明(设计)人：

王溯方书农

申请人：

上海新阳半导体材料股份有限公司

申请人地址：

201616 上海市松江区思贤路3600号

IPC主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/16 G03F7/20 G03F7/32 G03F7/38

代理机构：

上海弼兴律师事务所 31283

代理人：

马续红;陈卓

法律状态：

授权

国省代码：

上海市市辖区

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-11-14	授权	授权

共 50 条

[1]

一种EUV金属光刻胶及其制备方法和应用 [P].

王溯 ;

方书农 .

中国专利 :CN117148670B ,2025-11-07

[2]

一种EUV光刻胶及其制备方法与应用 [P].

邓海 ;

钱晓飞 ;

杨振宇 .

中国专利 :CN109164685B ,2019-01-08

[3]

一种正性光刻胶组合物及其制备方法和应用 [P].

霍建辉 ;

张兵 ;

向文胜 ;

赵建龙 ;

周浩杰 ;

李双庆 ;

袁会芳 .

中国专利 :CN121209205A ,2025-12-26

[4]

一种光刻胶及其制备方法和应用以及光刻方法 [P].

肖楠 ;

宋里千 .

中国专利 :CN109212919A ,2019-01-15

[5]

一种光刻胶剥离液及其制备方法和应用 [P].

李禾禾 ;

毛鸿超 ;

王静 ;

周国波 ;

曾成财 ;

赵永红 ;

安辉 ;

肖楠 .

中国专利 :CN119493348A ,2025-02-21

[6]

一种光刻胶组合物及其制备方法和应用 [P].

李禾禾 ;

毛鸿超 ;

王静 ;

曾成财 ;

王雪枫 ;

肖清凯 ;

郑可茹 ;

宋里千 ;

肖楠 .

中国专利 :CN119620543A ,2025-03-14

[7]

光刻胶及其制备方法和应用 [P].

许琪伟 ;

杨金慧 ;

周东站 ;

吕学良 ;

张洋 ;

李开宇 ;

魏东萌 ;

蒲文轩 ;

门孝菊 .

中国专利 :CN119414659A ,2025-02-11

[8]

光刻胶及其制备方法和应用 [P].

许琪伟 ;

杨金慧 ;

周东站 ;

吕学良 ;

张洋 ;

李开宇 ;

魏东萌 ;

蒲文轩 ;

门孝菊 .

中国专利 :CN119414659B ,2025-04-25

[9]

负性光刻胶组合物及其制备方法和应用 [P].

侯远杨 ;

刁莹雪 ;

鲁代仁 ;

李冰 ;

孙嘉 ;

董栋 ;

张宁 .

中国专利 :CN117631453A ,2024-03-01

[10]

一种蝶烯化合物组成的光刻胶及其制备方法和应用 [P].

方书农 ;

王溯 .

中国专利 :CN117148671B ,2025-11-14

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