光刻聚焦装置、方法及系统

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202411215821.7

申请日：

2024-08-30

公开(公告)号：

CN118981148A

公开(公告)日：

2024-11-19

发明(设计)人：

梁晋楠唐文尧郭晓波

申请人：

上海华力集成电路制造有限公司

申请人地址：

201314 上海市浦东新区良腾路6号

IPC主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

代理机构：

上海思捷知识产权代理有限公司 31295

代理人：

傅梦婷

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

上海市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-12-06	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G03F 7/20申请日:20240830
2024-11-19	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻曝光系统和光刻刻蚀方法 [P].

范晓 ;

王函 ;

陈广龙 .

中国专利 :CN112269303A ,2021-01-26

[2]

光刻方法 [P].

韩建伟 ;

吴长明 ;

姚振海 ;

陈骆 ;

王绪根 ;

朱联合 .

中国专利 :CN113777885A ,2021-12-10

[3]

光刻曝光方法 [P].

王壮 ;

宋振伟 ;

张其学 ;

樊航 ;

王雷 .

中国专利 :CN119200339A ,2024-12-27

[4]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[5]

光刻胶显影方法 [P].

刘希仕 ;

王绪根 ;

朱联合 ;

姚振海 .

中国专利 :CN118189552A ,2024-06-14

[6]

聚焦光刻音叉晶片及其制备工艺 [P].

辜批林 ;

叶国萍 .

中国专利 :CN118890021A ,2024-11-01

[7]

聚焦光刻音叉晶片及其制备工艺 [P].

辜批林 ;

叶国萍 .

中国专利 :CN118890021B ,2024-12-10

[8]

光刻机对准方法、装置及光刻机 [P].

罗先刚 ;

李成建 ;

刘明刚 .

中国专利 :CN119356050A ,2025-01-24

[9]

光刻方法及光刻系统 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN117555205A ,2024-02-13

[10]

光刻方法及光刻系统 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 .

中国专利 :CN117555205B ,2024-11-29

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