光刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202110896270.5

申请日：

2021-08-05

公开(公告)号：

CN113777885A

公开(公告)日：

2021-12-10

发明(设计)人：

韩建伟吴长明姚振海陈骆王绪根朱联合

申请人：

申请人地址：

214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号

IPC主分类号：

G03F716

IPC分类号：

G03F742

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司 31211

代理人：

戴广志

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-12-28	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/16 申请日:20210805
2021-12-10	公开	公开

共 50 条

[1]

光刻胶显影方法 [P].

刘希仕 ;

王绪根 ;

朱联合 ;

姚振海 .

中国专利 :CN118189552A ,2024-06-14

[2]

光刻曝光方法 [P].

王壮 ;

宋振伟 ;

张其学 ;

樊航 ;

王雷 .

中国专利 :CN119200339A ,2024-12-27

[3]

光刻胶图案的制造方法 [P].

朱联合 ;

刘丁 ;

王绪根 ;

姚振海 .

中国专利 :CN118466121A ,2024-08-09

[4]

光刻曝光系统和光刻刻蚀方法 [P].

范晓 ;

王函 ;

陈广龙 .

中国专利 :CN112269303A ,2021-01-26

[5]

光刻胶去除腔的清洗方法 [P].

张硕 ;

吴长明 ;

冯大贵 ;

余鹏 ;

孙建 ;

李先宏 ;

尚柯 .

中国专利 :CN115407623A ,2022-11-29

[6]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[7]

MEMS工艺光刻胶屋檐结构的制造方法 [P].

董俊 ;

金佩 ;

张其学 ;

宋振伟 ;

王雷 ;

张守龙 .

中国专利 :CN118483873A ,2024-08-13

[8]

光刻聚焦装置、方法及系统 [P].

梁晋楠 ;

唐文尧 ;

郭晓波 .

中国专利 :CN118981148A ,2024-11-19

[9]

浸润式光刻机曝光方法 [P].

李玉华 ;

黄发彬 ;

周曙亮 ;

赵潞明 ;

吴长明 ;

姚振海 ;

金乐群 .

中国专利 :CN113204175A ,2021-08-03

[10]

基于表面等离激元的深紫外超分辨干涉光刻方法 [P].

罗先刚 ;

孔维杰 ;

陈赵玺 ;

王盛丁 ;

范鹏程 ;

王长涛 ;

赵泽宇 .

中国专利 :CN119805882A ,2025-04-11

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