光刻方法

被引：0

申请号：

CN202211287572.3

申请日：

2022-10-20

公开(公告)号：

CN115685702A

公开(公告)日：

2023-02-03

发明(设计)人：

董俊张其学王雷宋振伟

申请人：

申请人地址：

214028 江苏省无锡市新吴区新洲路30号

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

G03F180 G03F900 G03F142 G03F720 H01L21027 H01L21033 H01L21311

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司 31211

代理人：

崔莹

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2023-02-03	公开	公开

共 50 条

[1]

去除光刻胶的方法及去胶机台 [P].

吴晶晶 .

中国专利 :CN117930596A ,2024-04-26

[2]

光刻胶的去除方法 [P].

郭佳衢 ;

刘焕新 .

中国专利 :CN101211125A ,2008-07-02

[3]

一种用于后栅工艺的光刻胶去除方法 [P].

隋运奇 ;

李凤莲 .

中国专利 :CN104051258B ,2014-09-17

[4]

钝化光刻胶表面的方法以及光刻方法 [P].

王新鹏 ;

黄怡 ;

韩秋华 ;

沈满华 .

中国专利 :CN101930179B ,2010-12-29

[5]

高粘度光刻胶的涂布方法、光刻方法 [P].

耿金鹏 ;

付瑞鹏 ;

童立峰 .

中国专利 :CN103977947A ,2014-08-13

[6]

降低半导体制造中光刻胶显影缺陷的光刻显影方法 [P].

王雷 ;

黄玮 .

中国专利 :CN101458462A ,2009-06-17

[7]

衬底上光刻结构的返工清洗方法 [P].

罗先刚 ;

朱瑶瑶 ;

罗云飞 ;

刘凯鹏 ;

张译尹 ;

赵泽宇 .

中国专利 :CN115440576A ,2022-12-06

[8]

衬底上光刻结构的返工清洗方法 [P].

罗先刚 ;

朱瑶瑶 ;

罗云飞 ;

刘凯鹏 ;

张译尹 ;

赵泽宇 .

中国专利 :CN115440576B ,2025-09-09

[9]

光刻胶去除方法和光刻工艺的返工方法 [P].

袁文勋 ;

陈杰 .

中国专利 :CN105573068A ,2016-05-11

[10]

光刻方法及光刻装置 [P].

请求不公布姓名 ;

请求不公布姓名 ;

贾志龙 .

中国专利 :CN121050183A ,2025-12-02

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