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衬底上光刻结构的返工清洗方法
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202211219249.2
申请日：
2022-09-30
公开(公告)号：
CN115440576B
公开(公告)日：
2025-09-09
发明(设计)人：
罗先刚
朱瑶瑶
罗云飞
刘凯鹏
张译尹
赵泽宇
申请人：
中国科学院光电技术研究所
申请人地址：
610209 四川省成都市双流350信箱
IPC主分类号：
H01L21/02
IPC分类号：
H01L21/027
G03F7/20
代理机构：
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人：
王文思
法律状态：
授权
国省代码：
北京市
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2025-09-09 | 授权 | 授权 |