脱除衬底上光刻胶的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN200580030001.X

申请日：

2005-08-31

公开(公告)号：

CN101015042A

公开(公告)日：

2007-08-08

发明(设计)人：

E·A·埃德尔伯格 R·P·切比 A·F·潘楚拉

申请人：

申请人地址：

美国加利福尼亚

IPC主分类号：

H01L21302

IPC分类号：

G03C500

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

任宗华

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2007-08-08	公开	公开
2009-09-09	发明专利申请公布后的驳回	发明专利申请公布后的驳回
2007-10-03	实质审查的生效	实质审查的生效

共 50 条

[1]

光刻胶的去胶方法 [P].

连庆庆 ;

蒋中伟 ;

王京 .

中国专利 :CN111722479A ,2020-09-29

[2]

光刻胶移除方法 [P].

张海洋 ;

周俊卿 .

中国专利 :CN103137440A ,2013-06-05

[3]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[4]

光刻胶清洗剂及半导体基板上光刻胶的清洗方法 [P].

王世哲 .

中国专利 :CN111103770A ,2020-05-05

[5]

去除光刻胶的方法以及再生光刻胶的方法 [P].

钟联盛 ;

魏其宏 ;

林信旭 .

中国专利 :CN1912749A ,2007-02-14

[6]

用于从衬底去除光刻胶的方法和设备 [P].

瓦迪亚纳森·巴拉苏布拉马尼恩 ;

稻沢刚一郎 .

中国专利 :CN1871554A ,2006-11-29

[7]

移除光刻胶的方法 [P].

郑台愚 .

中国专利 :CN101894751A ,2010-11-24

[8]

光刻胶的去除方法 [P].

杨峰 ;

谭宗良 .

中国专利 :CN102082089A ,2011-06-01

[9]

光刻胶的去除方法 [P].

肖玉洁 ;

朱旋 ;

谢宝强 ;

杨兆宇 .

中国专利 :CN102073227A ,2011-05-25

[10]

移除光刻胶的方法 [P].

郑台愚 .

中国专利 :CN101101457B ,2008-01-09

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