移除光刻胶的方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201010240766.9

申请日：

2007-06-11

公开(公告)号：

CN101894751A

公开(公告)日：

2010-11-24

发明(设计)人：

郑台愚

申请人：

申请人地址：

韩国京畿道利川市

IPC主分类号：

H01L2128

IPC分类号：

G03F742 G03F736

代理机构：

北京集佳知识产权代理有限公司 11227

代理人：

顾晋伟;王春伟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2010-11-24	公开	公开
2015-08-05	专利权的终止	未缴年费专利权终止号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101619434353 IPC(主分类):H01L 21/28 专利号:ZL2010102407669 申请日:20070611 授权公告日:20120711 终止日期:20140611
2011-01-05	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101029378725 IPC(主分类):H01L 21/28 专利申请号:2010102407669 申请日:20070611
2012-07-11	授权	授权

共 50 条

[1]

移除光刻胶的方法 [P].

郑台愚 .

中国专利 :CN101101457B ,2008-01-09

[2]

光刻胶移除方法 [P].

张海洋 ;

周俊卿 .

中国专利 :CN103137440A ,2013-06-05

[3]

一种移除光刻胶的方法 [P].

陈哲 ;

张睿 ;

王者馥 ;

王绪敏 ;

殷金龙 ;

任鲁风 .

中国专利 :CN105093864A ,2015-11-25

[4]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[5]

去除光刻胶的方法以及再生光刻胶的方法 [P].

钟联盛 ;

魏其宏 ;

林信旭 .

中国专利 :CN1912749A ,2007-02-14

[6]

光刻胶的去除方法 [P].

杨峰 ;

谭宗良 .

中国专利 :CN102082089A ,2011-06-01

[7]

光刻胶的去胶方法 [P].

连庆庆 ;

蒋中伟 ;

王京 .

中国专利 :CN111722479A ,2020-09-29

[8]

光刻胶的去除方法 [P].

肖玉洁 ;

朱旋 ;

谢宝强 ;

杨兆宇 .

中国专利 :CN102073227A ,2011-05-25

[9]

光刻胶、光刻胶组合产品及光刻胶图案化的方法 [P].

徐宏 ;

何向明 ;

刘天棋 .

中国专利 :CN115903376B ,2025-01-14

[10]

从晶片移除光刻胶的液体过滤 [P].

保罗·R·麦克休 ;

凯尔·莫兰·汉森 ;

约翰·L·克洛克 ;

艾里克·J·伯格曼 ;

斯图亚特·拉奈 ;

格雷戈里·J·威尔逊 .

中国专利 :CN109219864A ,2019-01-15

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