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光刻胶的去胶方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202010579225.2
申请日
:
2020-06-23
公开(公告)号
:
CN111722479A
公开(公告)日
:
2020-09-29
发明(设计)人
:
连庆庆
蒋中伟
王京
申请人
:
申请人地址
:
100176 北京市北京经济技术开发区文昌大道8号
IPC主分类号
:
G03F742
IPC分类号
:
代理机构
:
北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112
代理人
:
彭瑞欣;王婷
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2020-10-27
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/42 申请日:20200623
2020-09-29
公开
公开
共 50 条
[1]
光刻胶去除方法和去胶机
[P].
林政勋
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
无锡邑文微电子科技股份有限公司
无锡邑文微电子科技股份有限公司
林政勋
;
张云飞
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机构:
无锡邑文微电子科技股份有限公司
无锡邑文微电子科技股份有限公司
张云飞
;
华义永
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机构:
无锡邑文微电子科技股份有限公司
无锡邑文微电子科技股份有限公司
华义永
.
中国专利
:CN114660909B
,2025-08-26
[2]
光刻胶去除方法和去胶机
[P].
林政勋
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林政勋
;
张云飞
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张云飞
;
华义永
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华义永
.
中国专利
:CN114660909A
,2022-06-24
[3]
新型光刻胶去胶液
[P].
杜冰
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杜冰
;
方磊
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方磊
;
刘伟
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刘伟
;
梁豹
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梁豹
;
张兵
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张兵
;
赵建龙
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赵建龙
;
向文胜
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向文胜
;
朱坤
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朱坤
;
陆兰
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陆兰
.
中国专利
:CN109445256A
,2019-03-08
[4]
光刻胶去除方法及光刻胶重制方法
[P].
邱靖尧
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邱靖尧
;
谢玟茜
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谢玟茜
;
刘立尧
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刘立尧
;
胡展源
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胡展源
.
中国专利
:CN110581065A
,2019-12-17
[5]
一种光刻胶的去胶方法
[P].
陆丛希
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机构:
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
上海集成电路装备材料产业创新中心有限公司
陆丛希
.
中国专利
:CN120161689A
,2025-06-17
[6]
去除光刻胶的方法及去胶机台
[P].
吴晶晶
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机构:
上海华虹宏力半导体制造有限公司
上海华虹宏力半导体制造有限公司
吴晶晶
.
中国专利
:CN117930596A
,2024-04-26
[7]
一种光刻胶去胶液
[P].
杜冰
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杜冰
;
顾群艳
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顾群艳
;
梁豹
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梁豹
;
鲍杰
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鲍杰
;
张兵
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张兵
;
朱坤
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朱坤
.
中国专利
:CN107577121A
,2018-01-12
[8]
去除光刻胶的方法以及再生光刻胶的方法
[P].
钟联盛
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钟联盛
;
魏其宏
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魏其宏
;
林信旭
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林信旭
.
中国专利
:CN1912749A
,2007-02-14
[9]
移除光刻胶的方法
[P].
郑台愚
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郑台愚
.
中国专利
:CN101894751A
,2010-11-24
[10]
光刻胶的去除方法
[P].
杨峰
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杨峰
;
谭宗良
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谭宗良
.
中国专利
:CN102082089A
,2011-06-01
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