具有台阶的衬底的光刻方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201110240764.4

申请日：

2011-08-22

公开(公告)号：

CN102955364A

公开(公告)日：

2013-03-06

发明(设计)人：

王雷

申请人：

申请人地址：

201206 上海市浦东新区川桥路1188号

IPC主分类号：

G03F720

IPC分类号：

代理机构：

上海浦一知识产权代理有限公司 31211

代理人：

孙大为

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2013-04-03	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101430521668 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011102407644 申请日:20110822
2014-10-08	授权	授权
2013-03-06	公开	公开
2014-02-05	专利申请权、专利权的转移	专利申请权的转移号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101689091005 IPC(主分类):G03F 7/20 专利申请号:2011102407644 变更事项:申请人变更前权利人:上海华虹NEC电子有限公司变更后权利人:上海华虹宏力半导体制造有限公司变更事项:地址变更前权利人:201206 上海市浦东新区川桥路1188号变更后权利人:201203 上海市浦东新区张江高科技园区祖冲之路1399号登记生效日:20140107

共 50 条

[1]

具有沟槽的半导体衬底的光刻方法 [P].

朱岩岩 ;

王刚宁 .

中国专利 :CN104425216A ,2015-03-18

[2]

具有高台阶结构的硅片表面光刻方法 [P].

蒋丽 ;

杨涛 .

中国专利 :CN108107683B ,2018-06-01

[3]

衬底上光刻结构的返工清洗方法 [P].

罗先刚 ;

朱瑶瑶 ;

罗云飞 ;

刘凯鹏 ;

张译尹 ;

赵泽宇 .

中国专利 :CN115440576A ,2022-12-06

[4]

衬底上光刻结构的返工清洗方法 [P].

罗先刚 ;

朱瑶瑶 ;

罗云飞 ;

刘凯鹏 ;

张译尹 ;

赵泽宇 .

中国专利 :CN115440576B ,2025-09-09

[5]

在衬底上制备多级台阶的方法 [P].

杨健 ;

司朝伟 ;

韩国威 ;

宁瑾 ;

赵永梅 ;

梁秀琴 ;

王晓东 ;

杨富华 .

中国专利 :CN104445051A ,2015-03-25

[6]

一种基于全透明衬底的光刻方法 [P].

郑英奎 ;

张国祥 ;

岳玮 ;

魏珂 .

中国专利 :CN120044764A ,2025-05-27

[7]

包括衬底台的光刻设备 [P].

汉斯·巴特勒 ;

J·范埃基科 ;

S·A·J·霍尔 ;

J·P·M·B·沃麦尤伦 ;

黄仰山 .

中国专利 :CN102799071A ,2012-11-28

[8]

脱除衬底上光刻胶的方法 [P].

E·A·埃德尔伯格 ;

R·P·切比 ;

A·F·潘楚拉 .

中国专利 :CN101015042A ,2007-08-08

[9]

调节衬底表面反射率的结构及方法、光刻方法 [P].

朱治国 ;

朱骏 ;

陈力钧 .

中国专利 :CN106129042B ,2016-11-16

[10]

基于高台阶斜坡的光刻方法及系统 [P].

苏佳乐 .

中国专利 :CN103777468B ,2014-05-07

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