光刻胶去除方法和光刻工艺的返工方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201410531606.8

申请日：

2014-10-10

公开(公告)号：

CN105573068A

公开(公告)日：

2016-05-11

发明(设计)人：

袁文勋陈杰

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

G03F742

IPC分类号：

G03F716 H01L2102 H01L21311

代理机构：

上海光华专利事务所 31219

代理人：

李仪萍

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2016-05-11	公开	公开
2019-11-05	授权	授权
2016-06-08	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101663892938 IPC(主分类):G03F 7/42 专利申请号:2014105316068 申请日:20141010

共 50 条

[1]

光刻胶去除方法和光刻工艺返工方法 [P].

杨彦涛 ;

江宇雷 ;

钟荣祥 ;

崔小锋 ;

吴继文 ;

袁媛 .

中国专利 :CN103558739A ,2014-02-05

[2]

光刻胶的去除方法及光刻工艺的返工方法 [P].

杨光宇 .

中国专利 :CN101281379A ,2008-10-08

[3]

光刻胶去除方法、光刻工艺的返工方法 [P].

袁宝玲 ;

高云 ;

赵祥旭 ;

王科 ;

邱运航 ;

陈方友 .

中国专利 :CN120276222A ,2025-07-08

[4]

光刻胶的去除方法和去除装置以及光刻工艺的返工方法 [P].

赵志豪 ;

李海峰 ;

沈俊明 ;

古哲安 .

中国专利 :CN121142926A ,2025-12-16

[5]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[6]

光刻胶去除方法 [P].

南兑浩 ;

李大烨 ;

丁明正 ;

贺晓彬 ;

刘强 ;

刘金彪 ;

周娜 .

中国专利 :CN114764219A ,2022-07-19

[7]

光刻胶去除装置和去除光刻胶的方法 [P].

张凇铭 ;

惠世鹏 ;

刘效岩 .

中国专利 :CN111610698A ,2020-09-01

[8]

正性光刻胶、光刻胶层及其制备方法、光刻工艺 [P].

王晓伟 .

中国专利 :CN114460810A ,2022-05-10

[9]

光刻工艺的返工方法 [P].

刘焕新 .

中国专利 :CN102543683A ,2012-07-04

[10]

光刻返工后残留光刻胶的去除方法 [P].

沈佳 .

中国专利 :CN104252103A ,2014-12-31

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