一种用于后栅工艺的光刻胶去除方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201310080082.0

申请日：

2013-03-13

公开(公告)号：

CN104051258B

公开(公告)日：

2014-09-17

发明(设计)人：

隋运奇李凤莲

申请人：

申请人地址：

201203 上海市浦东新区张江路18号

IPC主分类号：

H01L21311

IPC分类号：

G03F742

代理机构：

上海光华专利事务所 31219

代理人：

余明伟

法律状态：

公开

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2014-09-17	公开	公开
2014-10-22	实质审查的生效	实质审查的生效号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101587556747 IPC(主分类):H01L 21/311 专利申请号:2013100800820 申请日:20130313
2017-02-15	授权	授权

共 50 条

[1]

光刻胶去除方法和光刻工艺的返工方法 [P].

袁文勋 ;

陈杰 .

中国专利 :CN105573068A ,2016-05-11

[2]

光刻胶的去除方法及光刻工艺的返工方法 [P].

杨光宇 .

中国专利 :CN101281379A ,2008-10-08

[3]

光刻胶的去除方法 [P].

郭佳衢 ;

刘焕新 .

中国专利 :CN101211125A ,2008-07-02

[4]

光刻胶的去除方法 [P].

高慧慧 ;

秦伟 ;

杨渝书 .

中国专利 :CN103646873A ,2014-03-19

[5]

光刻胶去除方法 [P].

萧忠仁 ;

陈雅萍 ;

林建宏 ;

刘文斌 ;

陈志文 .

中国专利 :CN110716399A ,2020-01-21

[6]

光刻胶去除方法及光刻胶重制方法 [P].

邱靖尧 ;

谢玟茜 ;

刘立尧 ;

胡展源 .

中国专利 :CN110581065A ,2019-12-17

[7]

光刻胶去除装置和去除光刻胶的方法 [P].

张凇铭 ;

惠世鹏 ;

刘效岩 .

中国专利 :CN111610698A ,2020-09-01

[8]

一种去除光刻胶的方法 [P].

许杨 ;

朱兴旺 .

中国专利 :CN111913372A ,2020-11-10

[9]

一种光刻胶的去除方法 [P].

姜琪 ;

李兴辉 ;

韩攀阳 ;

杜婷 ;

蔡军 ;

冯进军 .

中国专利 :CN114879455A ,2022-08-09

[10]

光刻胶去除方法以及光刻胶去除系统 [P].

赵仲平 ;

张文龙 ;

戴茂春 ;

淮赛男 ;

周宇 .

中国专利 :CN113721430B ,2021-11-30

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