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一种光刻胶的去除方法
被引:0
申请号
:
CN202210419158.7
申请日
:
2022-04-21
公开(公告)号
:
CN114879455A
公开(公告)日
:
2022-08-09
发明(设计)人
:
姜琪
李兴辉
韩攀阳
杜婷
蔡军
冯进军
申请人
:
申请人地址
:
100015 北京市朝阳区酒仙桥路13号
IPC主分类号
:
G03F742
IPC分类号
:
H01J902
代理机构
:
北京正理专利代理有限公司 11257
代理人
:
张雪梅;赵晓丹
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-08-26
实质审查的生效
实质审查的生效 IPC(主分类):G03F 7/42 申请日:20220421
2022-08-09
公开
公开
共 50 条
[1]
一种光刻胶的去除方法
[P].
姜琪
论文数:
0
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0
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机构:
中国电子科技集团公司第十二研究所
中国电子科技集团公司第十二研究所
姜琪
;
李兴辉
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机构:
中国电子科技集团公司第十二研究所
中国电子科技集团公司第十二研究所
李兴辉
;
韩攀阳
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机构:
中国电子科技集团公司第十二研究所
中国电子科技集团公司第十二研究所
韩攀阳
;
杜婷
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机构:
中国电子科技集团公司第十二研究所
中国电子科技集团公司第十二研究所
杜婷
;
蔡军
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机构:
中国电子科技集团公司第十二研究所
中国电子科技集团公司第十二研究所
蔡军
;
冯进军
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机构:
中国电子科技集团公司第十二研究所
中国电子科技集团公司第十二研究所
冯进军
.
中国专利
:CN114879455B
,2025-11-28
[2]
一种去除光刻胶的方法
[P].
许杨
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许杨
;
朱兴旺
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朱兴旺
.
中国专利
:CN111913372A
,2020-11-10
[3]
一种去除光刻胶的方法
[P].
唐家乐
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唐家乐
;
张玉乾
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张玉乾
;
严磊
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严磊
;
陆嘉鑫
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陆嘉鑫
.
中国专利
:CN113805442A
,2021-12-17
[4]
光刻胶去除方法
[P].
高慧慧
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高慧慧
;
秦伟
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秦伟
;
李程
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李程
;
杨渝书
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杨渝书
.
中国专利
:CN104391434A
,2015-03-04
[5]
光刻胶的去除方法
[P].
杨峰
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杨峰
;
谭宗良
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谭宗良
.
中国专利
:CN102082089A
,2011-06-01
[6]
光刻胶去除方法
[P].
萧忠仁
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萧忠仁
;
陈雅萍
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陈雅萍
;
林建宏
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林建宏
;
刘文斌
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刘文斌
;
陈志文
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陈志文
.
中国专利
:CN110716399A
,2020-01-21
[7]
光刻胶的去除方法
[P].
肖玉洁
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肖玉洁
;
朱旋
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朱旋
;
谢宝强
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谢宝强
;
杨兆宇
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杨兆宇
.
中国专利
:CN102073227A
,2011-05-25
[8]
光刻胶去除方法及光刻胶重制方法
[P].
邱靖尧
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邱靖尧
;
谢玟茜
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谢玟茜
;
刘立尧
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刘立尧
;
胡展源
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胡展源
.
中国专利
:CN110581065A
,2019-12-17
[9]
光刻胶去除装置和去除光刻胶的方法
[P].
张凇铭
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张凇铭
;
惠世鹏
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惠世鹏
;
刘效岩
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刘效岩
.
中国专利
:CN111610698A
,2020-09-01
[10]
光刻胶去除方法以及光刻胶去除系统
[P].
赵仲平
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赵仲平
;
张文龙
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张文龙
;
戴茂春
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戴茂春
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淮赛男
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淮赛男
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周宇
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周宇
.
中国专利
:CN113721430B
,2021-11-30
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