共 50 条
[1]
[2]
[3]
[4]
[5]
[6]
[7]
[8]
[9]
[10]
带浅表外延层的外延片形成方法及其外延片
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN201010022705.5
申请日：
2010-01-12
公开(公告)号：
CN101777498A
公开(公告)日：
2010-07-14
发明(设计)人：
吴小利
许丹
申请人：
申请人地址：
201203上海市张江高科技圆区郭守敬路818号
IPC主分类号：
H01L21336
IPC分类号：
H01L2120
H01L2978
代理机构：
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237
代理人：
郑玮
法律状态：
专利申请权、专利权的转移
国省代码：
引用
下载
收藏
法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2014-06-11 | 专利申请权、专利权的转移 | 专利申请权的转移 号牌文件类型代码:1602 号牌文件序号:101701640022 IPC(主分类):H01L 21/336 专利申请号:2010100227055 变更事项:申请人 变更前权利人:上海宏力半导体制造有限公司 变更后权利人:上海华虹宏力半导体制造有限公司 变更事项:地址 变更前权利人:201203 上海市张江高科技园区郭守敬路818号 变更后权利人:201203 上海市张江高科技园区祖冲之路1399号 登记生效日:20140514 |
| 2010-07-14 | 公开 | 公开 |
| 2012-10-03 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 号牌文件类型代码:1604 号牌文件序号:101331113453 IPC(主分类):H01L 21/336 专利申请号:2010100227055 申请日:20100112 |
| 2015-05-06 | 发明专利申请公布后的视为撤回 | 发明专利申请公布后的视为撤回 号牌文件类型代码:1603 号牌文件序号:101714727317 IPC(主分类):H01L 21/336 专利申请号:2010100227055 申请公布日:20100714 |