制作互补型金属氧化物半导体器件的方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN201010124506.5
申请日
2010-03-11
公开(公告)号
CN102194750A
公开(公告)日
2011-09-21
发明(设计)人
黄敬勇 韩秋华 王新鹏
申请人
申请人地址
201203 上海市浦东新区张江路18号
IPC主分类号
H01L218238
IPC分类号
H01L21318 H01L21316
代理机构
北京市磐华律师事务所 11336
代理人
董巍;顾珊
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 50 条
[1]
制作互补型金属氧化物半导体器件的方法 [P]. 
黄敬勇 ;
张海洋 .
中国专利 :CN102194751A ,2011-09-21
[2]
制作互补型金属氧化物半导体器件结构的方法 [P]. 
赵林林 ;
张力群 .
中国专利 :CN102299111B ,2011-12-28
[3]
制作互补型金属氧化物半导体器件的方法 [P]. 
赵林林 .
中国专利 :CN102194749A ,2011-09-21
[4]
制作互补型金属氧化物半导体器件的方法 [P]. 
赵林林 .
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[5]
半导体器件和互补金属氧化物半导体半导体器件 [P]. 
柳青 ;
P·卡雷 ;
N·劳贝特 .
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[6]
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[7]
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赵兴在 ;
朴大奎 ;
吕寅硕 .
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[8]
互补金属氧化物半导体器件应力层的形成方法 [P]. 
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[9]
互补金属氧化物半导体 [P]. 
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[10]
互补金属氧化物半导体(CMOS)器件和方法 [P]. 
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X·李 ;
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